[发明专利]用于改善的卫生处理的装置和方法

权利要求书

1.一种用于改善的卫生处理的设备，所述设备包括：

卫生处理元件，所述卫生处理元件被配置为输出卫生处理剂；

扫描设备，所述扫描设备被配置为生成物体的物理形式的扫描数据；和

控制器，所述控制器操作地联接到所述卫生处理元件和所述扫描设备；所述控制器被配置为：

确定所述卫生处理剂的输出；

接收由所述扫描设备生成的所述扫描数据；以及

在所述卫生处理剂的强度分布不满足暴露阈值的情况下，基于所述扫描数据和所述卫生处理剂输出来确定所述物体的未能与所述卫生处理剂充分接触的一个或多个区域，

其中所述控制器被配置为确定在所述扫描设备的操作期间的所述卫生处理剂的输出，并且所述控制器进一步被配置为响应于接收到所述扫描数据而生成所述物体的三维3D渲染。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述卫生处理元件包括紫外(UV)光，使得所述卫生处理剂包括UV电磁辐射。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述扫描设备包括三维(3D)扫描仪。

4.根据权利要求1所述的设备，所述设备还包括支承所述卫生处理元件和所述扫描设备的壳体，其中所述壳体被配置为将所述卫生处理元件定位成邻近所述扫描设备，使得所述扫描设备的扫描方向与所述卫生处理剂的所述输出基本上对齐。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为生成所述物体的未能与所述卫生处理剂充分接触的所述一个或多个区域的指示。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为在所述物体的所述3D渲染上生成所述物体的未能与所述卫生处理剂充分接触的所述一个或多个区域的指示。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为：

分析所述扫描数据以确定所述设备相对于所述物体的位置；

从所述卫生处理元件接收所述卫生处理剂在所述位置处的强度分布；

将所述强度分布与暴露阈值进行比较；以及

在所述强度分布不满足所述暴露阈值的情况下，确定所述位置对应于所述物体的未能与所述卫生处理剂充分接触的区域。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为在所述物体的每个位置处的所述强度分布满足所述暴露阈值的情况下确定有效条件。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为基于对所述有效条件的一个或多个先前确定来修改所述暴露阈值。

10.根据权利要求7所述的设备，其中所述扫描数据还包括相关联的时间数据。

11.根据权利要求8所述的设备，其中所述控制器被进一步配置为存储对物体的有效条件的确定。

12.一种用于改善的卫生处理的计算机实现的方法，该计算机实现的方法包括：

接收由扫描设备生成的扫描数据，其中所述扫描数据与物体的物理形式相关联；

确定来自卫生处理元件的卫生处理剂的输出；以及

在所述卫生处理剂的强度分布不满足暴露阈值的情况下，基于所述扫描数据和所述卫生处理剂输出来确定所述物体的未能与所述卫生处理剂充分接触的一个或多个区域，

其中在所述扫描设备的操作期间确定来自卫生处理元件的卫生处理剂的输出，并且该方法还包括响应于接收到所述扫描数据而生成所述物体的三维3D渲染。