[发明专利]等离子体射流装置及等离子体切割系统

说明书

本发明公开了一种等离子体射流装置及等离子体切割系统，所述等离子体射流装置包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的底座，所述底座上设置有注气孔以及多个阴极柱插入孔，所述等离子体射流装置还包括多个阴极柱以及与多个所述阴极柱一一对应的多个子装置，多个所述子装置装设于所述壳体中，多个所述阴极柱通过多个所述阴极柱插入孔插入所述子装置中。本发明所提供地等离子体射流装置，一方面，能够产生足够的射流以满足切割需求；另一方面，能够减少单一射流装置的工作压力，均和能量输出，提高切割效率。

技术领域

本发明涉及电子发生装置技术领域，具体涉及一种等离子体射流装置及等离子体切割系统。

背景技术

等离子体(plasma)又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度(也叫德拜半径，是描述等离子体中电荷的作用尺度的典型长度)的宏观电中性电离气体，其运动主要受电磁力支配，并表现出显著的集体行为。

基于等离子体所具有的体积小、能量密度高、能量转化快速、电弧激发平稳等优点，在很多行业，例如航空航天、环保、能源、物质材料、生物医学等，对于等离子体的应用都较为广泛。然而，单一的等离子体发生装置所产生的射流或可导致能量无法达到要求，以及可控性较低的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种等离子体射流装置及等离子体切割系统，以解决现有的单一的等离子体发生装置所产生的激流可控性较低的问题。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：

本发明提供一种等离子体射流装置，所述等离子体射流装置包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的底座，所述底座上设置有注气孔以及多个阴极柱插入孔，所述等离子体射流装置还包括多个阴极柱以及与多个所述阴极柱一一对应的多个子装置，多个所述子装置装设于所述壳体中，多个所述阴极柱通过多个所述阴极柱插入孔插入所述子装置中。

可选地，多个所述子装置间隔设置。

可选地，所述壳体内开设有多个安装腔，多个所述安装腔与多个所述子装置一一对应，以用于容纳所述子装置。

可选地，所述壳体上开设有多个螺纹孔，所述壳体与所述子装置通过螺栓固定。

可选地，所述壳体远离所述底座的一端设置有阳极以及连接所述阳极的等离子体输出腔，沿所述等离子体输出方向，所述等离子体输出腔逐渐变窄。

可选地，所述底座与所述壳体可拆卸连接。

可选地，所述子装置包括第一电极，所述阴极柱设置于所述所述第一电极的中心位置，从而使得所述子装置具有环形的放电腔。

可选地，所述子装置还包括隔热层，所述隔热层的外壁与所述第一电极的内壁贴合。

可选地，所述子装置还包括放电通道，所述放电通道连接所述放电腔，沿所述放电通道的长度方向，所述子装置还设置有中间电极。

基于上述技术方案，本发明还提供一种等离子体切割系统，还包括总控面板，所述总控面板连接有注气控制单元、电压调节单元以及探针测控单元，所述注气控制单元连接并控制注气瓶，所述注气瓶通过导气管连接所述注气孔，所述电压调节单元连接所述阴极柱和多个螺栓，所述探针测控单元连接探针，以用于获取等离子体输出信号。

本发明具有以下有益效果：

通过上述技术方案，即通过本发明实施例所提供的等离子体射流装置，多个子装置的存在，一方面，能够产生足够的射流以满足切割需求；另一方面，能够减少单一射流装置的工作压力，均和能量输出，提高切割效率。

附图说明

图1为本发明实施例所提供的等离子体切割系统结构示意图；

图2为本发明实施例所提供的等离子体射流装置的立体图；