[发明专利]等离子体射流装置及等离子体切割系统

权利要求书

1.一种等离子体射流装置，其特征在于，所述等离子体射流装置包括壳体(12)以及与所述壳体(12)可拆卸连接的底座(13)，所述底座(13)上设置有注气孔(16)以及多个阴极柱插入孔，所述等离子体射流装置还包括多个阴极柱(11)以及与多个所述阴极柱(11)一一对应的多个子装置(4)，多个所述子装置(4)装设于所述壳体(12)中，多个所述阴极柱(11)通过多个所述阴极柱插入孔插入对应所述子装置(4)中。

2.根据权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，多个所述子装置(4)间隔设置。

3.根据权利要求2所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述壳体(12)内开设有多个安装腔，多个所述安装腔与多个所述子装置(4)一一对应，以用于容纳所述子装置(4)。

4.根据权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述壳体(12)上开设有多个螺纹孔，所述壳体(12)与所述子装置(4)通过多个螺栓(14)固定，多个所述螺栓(14)与多个所述螺纹孔一一对应。

5.根据权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述壳体(12)远离所述底座(13)的一端设置有阳极(46)以及连接所述阳极(46)的等离子体输出腔(15)，沿等离子体(3)输出方向，所述等离子体输出腔(15)逐渐变窄。

6.根据权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述底座(13)与所述壳体(12)可拆卸连接。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述子装置(4)包括第一电极(41)，所述阴极柱(11)设置于所述第一电极(41)的中心位置，用于在所述子装置(4)内形成环形的放电腔(47)。

8.根据权利要求7所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述子装置(4)还包括隔热层(42)，所述隔热层(42)的外壁与所述第一电极(41)的内壁贴合。

9.根据权利要求7所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述子装置(4)还包括放电通道(48)，所述放电通道(48)连接所述放电腔(47)，沿所述放电通道(48)的长度方向，所述子装置(4)还设置有中间电极。

10.一种等离子体切割系统，其特征在于，所述等离子体切割系统包括根据权利要求1-9中任意一项所述的等离子体射流装置，还包括总控面板(2)，所述总控面板(2)连接有注气控制单元(21)、电压调节单元(22)以及探针测控单元(23)，所述注气控制单元(21)连接并控制注气瓶(211)，所述注气瓶(211)通过导气管连接所述注气孔(16)，所述电压调节单元连接所述阴极柱(11)和多个螺栓(14)，所述探针测控单元(23)连接探针(231)，以用于获取等离子体输出信号。