[发明专利]一种双台面工作台及对位方法

说明书

本发明提出一种双台面工作台和一种对位方法，其中，双台面工作台包括，输送机构、第一工作台、第二工作台和对位组件；所述输送机构包括第一滑轨和第二滑轨；所述第一滑轨上设有第一滑块；所述第二滑轨上设有第二滑块；所述输送机构的两端分别为对位工位和工作工位；所述第一工作台连接所述第一滑块，所述第二工作台连接所述第二滑块；所述第一工作台和所述第二工作台可分别沿所述第一滑轨和所述第二滑轨在所述对位工位和所述工作工位往返滑动；所述对位组件设于所述对位工位；所述对位组件包括UVW对位台和用于将所述UVW对位台连接到所述第一工作台或所述第二工作台的连接组件。本发明解决了常规双台面工作台对位精度低下的问题。

技术领域

本发明涉及工作台技术领域，特别涉及一种双台面工作台及对位方法。

背景技术

UVW对位平台是多轴联运动机构，通过4个线性移动轴的并联运动可以实现单轴直线运动、两轴线性插补、两轴圆弧插补、任意圆心旋转等复杂运动，是高精度视觉对位系统中机械执行部分，其高精度特性使其广泛运用于网版印刷机、曝光机、光罩印刷机、贴片机等场合。目前UVW平台由下底板、上台面和四个运动轴组成，四个运动轴相互配合，实现精准对位。单独的UVW平台，可以对单个工作台进行多次对位，位置精度较高，但对位所需要的时间相对较长，生产效率较低；双跑台工作平台的上下两工作台并行工作，效率较高，但物件在工作台上的位置精度取决于上料时的位置精度，位置精确性较差，且不易调整。因此现有技术仍需进一步改进。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种双台面工作台及用于双台面工作台的对位方法，旨在解决现有技术中双台面工作台对位精度低的问题。

为实现上述目的，本发明提出的双台面工作台包括，输送机构、第一工作台、第二工作台和对位组件；所述输送机构包括第一滑轨和第二滑轨；所述第一滑轨上设有第一滑块；所述第二滑轨上设有第二滑块；所述输送机构的两端分别为对位工位和工作工位；所述第一工作台连接所述第一滑块，所述第二工作台连接所述第二滑块；所述第一工作台和所述第二工作台可分别沿所述第一滑轨和所述第二滑轨在所述对位工位和所述工作工位往返滑动；所述对位组件设于所述对位工位；所述对位组件包括UVW对位台和用于将所述UVW对位台连接到所述第一工作台或所述第二工作台的连接组件。

优选地，所述第一滑块上连接有第一锁紧机构，所述第一滑块通过所述第一锁紧机构可锁紧地连接所述第一工作台。

优选地，所述第一锁紧机构包括第一压板气缸和第一压板。

优选地，所述第一滑轨位于所述第二滑轨内侧，且所述第一工作台的上表面低于所述第二工作台的下表面。

优选地，所述第一工作台上设置有标靶，所述对位组件还包括用于拍摄所述标靶以确定所述第一工作台位置的复位相机。

优选地，所述标靶设于所述第一工作台的边缘。

优选地，所述UVW对位台位于所述对位工位下方，所述标靶设于所述第一工作台下表面。

优选地，所述对位组件还包括用于照亮所述标靶的光源。

优选地，所述标靶设置多个，且多个所述标靶间隔设置。

优选地，至少两所述标靶对应各设置一所述复位相机。

优选地，所述第一工作台的下表面设有以所述第一工作台的中心为对称中心的两个定位部；所述UVW对位台位于所述对位工位下方，所述对位组件还包括两个对称设置且与两个所述定位部相配合的原点定位气缸。

优选地，所述原点定位气缸包括缸体和活塞杆，所述活塞杆连接有推动部，所述推动部与所述定位部相适配。

优选地，所述定位部包括凸轮随动器，所述推动部具有与所述凸轮随动器相配合的定位凹部。