[发明专利]一种提取CMOS器件中迁移率和源漏极串联电阻的方法有效
申请号: | 202110266987.1 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113049936B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 鲁明亮;马丽娟 | 申请(专利权)人: | 鲁明亮 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 南京华恒专利代理事务所(普通合伙) 32335 | 代理人: | 宋方园 |
地址: | 210000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提取 cmos 器件 迁移率 源漏极 串联 电阻 方法 | ||
1.一种提取CMOS器件中迁移率和源漏极串联电阻的方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤S1、对某CMOS器件,使其源极和衬底接地测量该CMOS器件的初始Id-Vgs曲线,求出此时的跨导gm,利用最大跨导处线性外推方法计算出该CMOS器件的初始阈值电压VT,计算得到迁移率退化因子θ和零场迁移率下的增益因子β0;
其中,Id是指该CMOS器件的初始漏极电流值,Vgs是指该CMOS器件的初始栅极电压,Vds是指该CMOS器件的初始漏极电压;β0为零场迁移率下的增益因子;
步骤S2、对上述CMOS器件,施加t时间段最严重HCI退化条件下的HCI应力,该CMOS器件的Si/SiO2界面产生界面态;使其源极和衬底接地,在t时间段内分别测量多个时刻的HCI应力时间后的Id′-Vgs′曲线,并求得对应的跨导、阈值电压、迁移率退化因子和零场迁移率下的增益因子;
步骤S3、计算得到步骤S2中t时间内各时刻HCI应力时间下对应于步骤S1的有效场效应迁移率变化量δμeff;
步骤S4、得到t时间内各时刻HCI应力时间下的θ-β0曲线,根据θ与β0的计算公式进行直线拟合,拟合后的直线中截距和斜率分别为θ0和RSD的值;
θ=θ0+β0RSD;
2.根据权利要求1所述的提取CMOS器件中迁移率和源漏极串联电阻的方法,其特征在于:所述步骤S2中,取t时间段内五个时刻的HCI应力后的电流电压曲线,分别是100s,1000s,2500s,4000s和6000s时刻。
3.根据权利要求1所述的提取CMOS器件中迁移率和源漏极串联电阻的方法,其特征在于:所述步骤S2对CMOS器件施加t时间段最严重HCI退化条件下的HCI应力时,施加最严重HCI退化条件是指Vds=Vgs且VS=0V。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鲁明亮,未经鲁明亮许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110266987.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。