[发明专利]防反射薄膜及图像显示装置在审

专利信息
申请号: 202110261906.9 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113391380A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 宫本幸大;高见佳史;梨木智刚 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/115;G09F9/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射 薄膜 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种防反射薄膜,其在薄膜基材上具备防反射层,所述防反射层包含多个薄膜,

所述防反射层包含低折射率层、和具有比所述低折射率层高的折射率的高折射率层作为所述薄膜,

从所述防反射层侧照射的D65光源的正反射光满足下述的特性(A)及(B):

(A)2°入射光的正反射光的视感反射率Y2与θ°入射光的正反射光的视感反射率Yθ在5~50°的范围的任意角度θ中满足Yθ/Y2≤6.0

(B)2°入射光的正反射光的色度指数a*2及b*2与θ°入射光的正反射光的色度指数a*θ及b*θ在5~50°的范围的任意角度θ中满足{(a*2-a*θ)2+(b*2-b*θ)2}1/2≤6.0。

2.根据权利要求1所述的防反射薄膜,其中,所述高折射率层在波长550nm下的折射率为1.80以上,

所述低折射率层在波长550nm下的折射率为1.50以下。

3.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,所述高折射率层在波长400nm下的折射率为1.84~2.55、在波长700nm下的折射率为1.78~2.35。

4.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,所述高折射率层的阿贝数νD为20以上。

5.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,所述防反射层包含所述低折射率层和所述高折射率层共计5层以上。

6.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,2°入射光的正反射光的视感反射率Y2为1.0%以下。

7.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,θ°入射光的正反射光的视感反射率Yθ在5~50°的范围的任意角度θ中为3.0%以下。

8.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,2°入射光的正反射光的色度指数a*2及b*2满足{(a*)2+(b*2)2}1/2≤5.0。

9.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,θ°入射光的正反射光的色度指数a*θ及b*θ在5~50°的范围的任意角度θ中满足{(a*θ)2+(b*θ)2}1/2≤9.0。

10.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜,其中,构成所述防反射层的多个薄膜均为陶瓷薄膜。

11.一种图像显示装置,其在图像显示介质的视觉辨识侧表面配置有权利要求1~10中任一项所述的防反射薄膜。

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