[发明专利]具有特定共聚单体分布的聚乙烯共聚物有效
| 申请号: | 202110261395.0 | 申请日: | 2016-04-21 |
| 公开(公告)号: | CN112979853B | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
| 发明(设计)人: | R·L·库尔曼 | 申请(专利权)人: | 尤尼威蒂恩技术有限责任公司 |
| 主分类号: | C08F210/02 | 分类号: | C08F210/02;C08F210/16;C08F4/6592 |
| 代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 封新琴 |
| 地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 特定 共聚 单体 分布 聚乙烯 共聚物 | ||
1.一种聚乙烯共聚物,其中所述聚乙烯共聚物在一或多种催化剂化合物存在下形成,其中所述共聚物具有大于1.40的共聚单体分区趋势ξ,并且其中所述共聚单体分区趋势由等式(1)定义且测量所述聚乙烯共聚物在高分子量链中具有共聚单体的倾向;
其中
CPI是共聚单体分区指数χw/χn,其中χw=∑Ni(MiCi)2/∑Ni(MiCi)且χn=∑Ni(MiCi)/∑Ni;
PDI是多分散指数Mw/Mn;
CDI是共聚单体分散指数Cw+1/Cw,其中Cw=∑NiMiCi/∑NiMi且Cw+1=∑NiMiCi2/∑NiMiCi;
Mi=共聚物的分子量;
Ni=具有分子量Mi的共聚物的数目;
Ci=共聚物中共聚单体的重量分数;
Mw=所述共聚物的重量平均分子量;
Mn=所述共聚物的数目平均分子量;以及
Cw=所述共聚物中共聚单体的平均重量分数,
并且其中所述一或多种催化剂化合物包括具有下式的化合物:
(C5HaR1b)(C5HcR2d)HfX2,
其中,每一个R1独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;每一个R2独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;a和c≥3;a+b=c+d=5;至少一个R1和至少一个R2是烃基或经取代的烃基;相邻基团R1和R2基团可偶合以形成环;且每一个X独立地为选自以下的离去基:不稳定烃基、经取代的烃基或杂原子基团,或连接到R1或R2基团的二价基团;或
其中所述一或多种催化剂化合物包括具有下式中的至少一个的化合物:
其中,每一个R3独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;R4为烃基、经取代的烃基或杂原子基团;每一个R5独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;其中R3、R4和R5可以相同或不同;其中如果连接两个环戊二烯基环的原子数目≥3,那么R3、R4或R5基团可与相对环戊二烯基结构上的R3、R4或R5基团接合以形成一或多个桥;且每一个X独立地为选自以下的离去基:不稳定烃基、经取代的烃基、杂原子基团或连接到R3、R4或R5取代基的二价基团;或
其中所述一或多种催化剂化合物包括具有下式的化合物:
其中,每一个R3独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;R4为烃基、经取代的烃基或杂原子基团;每一个R5独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团;其中R3、R4和R5可以相同或不同;其中如果连接所述两个环戊二烯基环的所述原子数目≥3,那么R3、R4或R5基团可与相对环戊二烯基结构上的R3、R4或R5基团接合以形成一或多个桥;并且每一个X独立地为选自以下的离去基:不稳定烃基、经取代的烃基、杂原子基团或连接到R3、R4或R5取代基的二价基团;或
其中所述一或多种催化剂化合物包括具有下式的化合物:
其中,每一个R3独立地为H、烃基、经取代的烃基或杂原子基团,其中每一个R3可以相同或不同,每一个X独立地为选自以下的离去基:不稳定烃基、经取代的烃基、杂原子基团或连接到R3基团的二价基团。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尤尼威蒂恩技术有限责任公司,未经尤尼威蒂恩技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110261395.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种焊接工艺
- 下一篇:间接眼底镜固定调节装置





