[发明专利]一种高光亮复合镀镍层

权利要求书

1.一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述镀镍层的光亮度GU值为249±15，硬度923HV±50Hv，摩擦系数为0.27-0.35，所述镀镍层的表面垂直的断面中的无机纳米改性颗粒的面积率为1～15％，所述无机纳米改性颗粒为包覆有氧化硅的硫化钼材料，所述无机纳米改性颗粒的制备方法如下：

（1）将1.5-2.5 g硫化钼置于三口烧瓶中，加入45 -50mL质量分数为98%的H₂SO₄和10-15mL质量分数为65%-67%的HNO₃，密封磁力搅拌15-20 min，水浴加热于100℃回流处理4-6h，去离子水洗涤至中性，空气炉中60-70℃干燥12-18h，得到混酸氧化处理的硫化钼颗粒；

（2）称取1-1.5g的步骤（1）处理的硫化钼颗粒加入到三口瓶中，在三口瓶加入1-2ml三乙胺，然后缓慢逐滴加入50-75ml、5-15mmol/L的偶氮类接枝剂溶液，N₂保护，室温条件下搅拌18-24h，使用甲醇多次洗涤，并使用去离子水-乙醇配制2-5wt.%的接枝硫化钼颗粒水溶液，所述去离子水和乙醇体积比为1：(2-3)；

所述偶氮类接枝剂的结构如下：

；

（3）将上述接枝硫化钼颗粒水溶液置于无内衬水热反应釜中，加入适量氨水调节pH值为7.5-8，使用纯氧气排空，并使用纯氧加压，使得水热反应釜的压力为1-1.1Mpa，关闭纯氧进气阀，密封水热反应釜，加热至180-200℃，于搅拌条件下持续反应24-36h，自然冷却；

（4）去离子水洗涤，焙烧，获得氧化硅包覆的硫化钼改性颗粒。

2.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述镀镍层的表面垂直的断面中的无机纳米改性颗粒的面积率为2～10％。

3.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述镀镍层的表面垂直的断面中的无机纳米改性颗粒的面积率为3～5％。

4.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述镀镍层制备过程中使用的镀液组成如下：硫酸镍230-240g/L、氯化镍30-40g/L、硼酸30-35g/L、润湿剂0.02-0.05g/L、初级光亮剂0.6-0.8g/L、次级光亮剂0.2-0.4g/L、辅助光亮剂0.15-0.25g/L和1-20wt.%无机纳米改性颗粒悬浮溶剂。

5.如权利要求4所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述初级光亮剂为十二烷基二苯醚二磺酸钠，所述次级光亮剂为邻氯苯甲醛，所述辅助光亮剂为亚甲基二萘磺酸钠。

6.如权利要求4所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述镀镍层制备过程中的工艺参数为pH值4-6，电镀参数：阴极电流密度2.5-3A/dm2，搅拌速度5-15rpm，时间30-50min，温度40-50℃。

7.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述焙烧的温度为200-300℃，气氛为空气。

8.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述硫化钼的粒径为50-150nm，纯度大于99.8%。

9.如权利要求1所述的一种高光亮复合镀镍层，其特征在于所述水热过程为程序升温，由常温5-6℃/min升至180-200℃。