[发明专利]三维重建方法、设备和介质

权利要求书

1.一种三维重建方法，包括：

获取目标图像的多个像素的深度信息；

基于所述多个像素的深度信息，确定所述目标图像的深度分布特征；

基于所述深度分布特征，根据第一预设规则对所述目标图像进行自适应降采样，以从所述目标图像中确定多个采样像素；以及

基于所述多个采样像素，生成三维模型。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多个像素包括多列像素中每一列像素所包括的多个像素，

其中，确定所述目标图像的深度分布特征包括：

基于所包括的多个像素的深度信息，计算多列像素中每一列像素的深度分布特征。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，根据第一预设规则对所述目标图像的像素进行自适应降采样包括：

以第一采样步长对所述目标图像所包括的所有列像素进行初步降采样，以从所述目标图像所包括的所有列像素中确定所述多列像素。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，根据第一预设规则对所述目标图像的像素进行自适应降采样包括：

至少基于所述多列像素各自相应的深度分布特征，根据第一预设规则对所述目标图像进行自适应降采样，以从所述多列像素中确定多个采样列像素，

其中，所述多个采样像素为至少基于所述多个采样列像素来确定。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述每一列像素的深度分布特征为该列像素所包括的多个像素的深度方差。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，基于所述多列像素各自相应的深度分布特征以及预设的方差阈值，根据第一预设规则对所述目标图像进行自适应降采样，以从所述多列像素中确定多个采样列像素。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述多列像素为以第一采样步长从所述目标图像中采样得到，

其中，至少基于所述多列像素各自相应的深度分布特征，根据第一预设规则对所述目标图像进行自适应降采样包括：

设定第二采样步长和第三采样步长，其中，第二采样步长大于第三采样步长；以及

在所述目标图像的降采样过程中，确定所述多列像素中与当前采样列像素相邻的待采样的至少一个列像素，并且基于当前采样列像素的深度方差、所述至少一个列像素各自相应的深度方差和所述预设的方差阈值，确定以当前列采样像素为起始的当前采样步长为第二采样步长或第三采样步长，

其中，所述目标图像的降采样最大采样步长小于设定步长。

8.根据权利要求4所述的方法，其中，所述多个采样列像素包括所述目标图像的第一列像素所包括的所有像素和最后一列像素所包括的所有像素。

9.根据权利要求4所述的方法，其中，对所述目标图像的像素进行自适应降采样包括：

以预设的第四采样步长对所述目标图像的行像素进行降采样，以从所述目标图像中确定多个采样行像素，

其中，所述多个采样像素为基于所述多个采样行像素和所述多个采样列像素来确定。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法，其中，所述目标图像包括基于待处理图像所得到的前景图像和背景图像，所述多个采样像素包括所述前景图像中的多个第一采样像素和所述背景图像中的多个第二采样像素。

11.根据权利要求10中任一项所述的方法，其中，对所述目标图像进行自适应降采样包括：

分别对前景图像和背景图像进行自适应降采样，以从所述前景图像中确定所述多个第一采样像素，并且从所述背景图像中确定所述多个第二采样像素。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述前景图像相应的预设的方差阈值小于所述背景图像相应的预设的方差阈值。