[发明专利]用于电子设备的可见光反射涂层

权利要求书

1.一种用于电子设备的装置，包括：

导电衬底；和

涂层，所述涂层位于所述导电衬底上并且具有颜色，所述涂层包括：

粘附和过渡层，

位于所述粘附和过渡层上的CrSiN层，所述CrSiN层对所述颜色的光不透明，以及

位于所述CrSiN层上的最上层，所述最上层包括CrSiC膜，

其中所述CrSiC膜形成单层干涉滤光片。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述CrSiC膜具有介于0.01微米和0.1微米之间的厚度。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述CrSiC膜中Cr原子的原子百分比大于25％且小于35％，并且其中所述CrSiC膜中Si原子的原子百分比大于50％且小于60％。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述CrSiN层中Cr原子的原子百分比大于55％且小于65％，并且其中所述CrSiN层中Si原子的原子百分比大于20％且小于30％。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述CrSiC膜具有介于0.04微米和0.06微米之间的厚度。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述涂层具有CIELAB色彩空间中介于45和55之间的L*值、所述CIELAB色彩空间中介于-5和0之间的a*值、以及所述CIELAB色彩空间中介于-14和-10之间的b*值。

7.根据权利要求2所述的装置，其中所述CrSiC膜中Cr原子的原子百分比大于50％且小于60％，并且其中所述CrSiC膜中Si原子的原子百分比大于30％且小于40％。

8.根据权利要求7所述的装置，其中所述CrSiN层中Cr原子的原子百分比大于60％且小于70％，并且其中所述CrSiN层中Si原子的原子百分比大于10％且小于25％，其中所述CrSiC膜具有介于0.01微米和0.04微米之间的厚度，其中所述涂层具有CIELAB色彩空间中介于35和40之间的L*值、所述CIELAB色彩空间中介于0和5之间的a*值、以及所述CIELAB色彩空间中介于-10和-5之间的b*值。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述粘附和过渡层包括位于所述导电衬底上的晶种层和位于所述晶种层上的过渡层，其中所述晶种层包含选自由Cr、CrSi和Ti构成的组的材料，并且其中所述过渡层包含选自由CrSiN、CrSiCN、CrN和CrCN构成的组的材料。

10.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电衬底包括选自由以下项构成的组的导电衬底：电子设备导电外壳壁和用于电子设备的三维导电结构。