[发明专利]一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统及方法

权利要求书

1.一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，包括样品储液瓶(1)、进样电磁阀(2)、电解微膜抑制器(3)、出样电磁阀(4)、样品收集瓶(5)、再生液瓶(6)以及电源控制器(7)，所述样品储液瓶(1)通过进样电磁阀(2)与电解微膜抑制器(3)连接，所述样品收集瓶(5)通过出样电磁阀(4)与电解微膜抑制器(3)连接，所述进样电磁阀(2)上设置有进样通道(8)，所述进样通道(8)与样品储液瓶(1)连接，所述出样电磁阀(4)上设置有出样通道(9)，所述出样通道(9)与样品收集瓶(5)连接，所述再生液瓶(6)连接在所述电解微膜抑制器(3)的再生液通道入口处，所述电源控制器(7)与电解微膜抑制器(3)电连接。

2.根据权利要求1所述的一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，所述进样电磁阀(2)上还设置有进样口(10)以及冲洗口(11)，所述进样口(10)首端与进样通道(8)或冲洗口(11)连通，末端与电解微膜抑制器(3)连通，所述冲洗口(11)连接有冲洗瓶(12)；所述出样电磁阀(4)上还设置有出样口(13)以及废液口(14)，所述出样口(13)首端与电解微膜抑制器(3)连通，末端与出样通道(9)或废液口(14)连通，所述废液口(14)连接有废液瓶(15)。

3.根据权利要求2所述的一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，还包括切阀器(16)，所述切阀器(16)一端与进样电磁阀(2)电连接，另一端与出样电磁阀(4)电连接。

4.根据权利要求2所述的一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，所述进样电磁阀(2)与电解微膜抑制器(3)之间设置有平流输液泵I(17)，所述再生液瓶(6)与电解微膜抑制器(3)之间设置有平流输液泵II(18)。

5.根据权利要求2所述的一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，所述样品储液瓶(1)与样品收集瓶(5)均设置有多个。

6.根据权利要求5所述的一种金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统，其特征在于，所述进样通道(8)的与样品储液瓶(1)的数量相匹配，所述出样通道(9)与样品收集瓶(5)的数量相匹配。

7.一种根据权利要求2至6任一项所述的金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：将待处理样品溶液加入到样品储液瓶(1)中，其中样品储液瓶(1)内的样品量大于处理时间*输液泵流速；将再生液瓶(6)与冲洗瓶(12)中加入去离子水；

步骤二：通过输液管将样品储液瓶(1)、进样电磁阀(2)、电解微膜抑制器(3)、出样电磁阀(4)以及样品收集瓶(5)依次连接形成输液管路；

步骤三：设置切阀器(16)参数，进样电磁阀(2)设置为常态模式即通进样口(10)与冲洗口(11)，出样电磁阀(4)设置为常态模式即通出样口(13)与废液口(14)，用冲洗瓶(12)内去离子水将输液管路进行冲洗；

步骤四：去离子水冲洗完之后，进样电磁阀(2)设置为进样状态即打开相应的进样通道(8)，出样电磁阀(4)保持常态模式，用样品对输液管路进行冲洗；

步骤五：样品冲洗完成之后，进样电磁阀(2)保持进样状态，出样电磁阀(4)设置为出样状态即打开相应的出样通道(9)；即样品储液瓶(1)中的样品依次通过进样通道(8)、进样口(10)、电解微膜抑制器(3)、出样口(13)、出样通道(9)后完成前处理过程收集至样品收集瓶(5)中；

步骤六：启动平流输液泵I(17)以及平流输液泵II(18)，调整流速；开启电源控制器(7)，调整电源控制器(7)的施加电流；收集完毕后，依次关闭电源控制器(7)、输液泵I(17)、输液泵II(18)，收集样品。

8.根据权利要求7所述的金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统的使用方法，其特征在于，所述步骤一中去离子水的电导率大于18.25MΩ。

9.根据权利要求7所述的金属离子富集溶液用阴离子分析前处理系统的使用方法，其特征在于，所述步骤六中平流输液泵I(17)以及平流输液泵II(18)的流速调整范围为0.01mL/min至50mL/min；电源控制器(7)的施加电流调整范围为1至1000mA。