[发明专利]MAPbI3在审

专利信息
申请号: 202110212877.7 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN113001376A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 徐闰;王文贞;杨亦桁;戚焕震;仝向;赖建明;徐飞;王林军 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B1/00;C09G1/02
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: mapbi base sub
【说明书】:

发明公开了一种CH3NH3PbI3(MAPbI3)晶体的抛光方法,涉及抛光领域,包括以下步骤:准备好待抛光的晶体,对待抛光的晶体表面进行细砂纸的打磨处理;配制抛光液,通过煤油与硅油以1:9的体积比进行混合,配制抛光液溶剂;将25mL溶剂与2g氧化镁抛光粉混合后超声均匀分散,形成所用的抛光液;将抛光液均匀倾倒至金相绒布抛光垫上,对待抛光的晶体进行抛光;通过煤油对晶体进行清洗,得到理想的晶体表面。MAPbI3晶体通过此方法抛光后,表面缺陷显著减少,电学性质明显提高。

技术领域

本发明涉及抛光领域,特别涉及一种CH3NH3PbI3晶体的抛光方法,属于晶体材料表面处理技术领域。

背景技术

近年来,钙钛矿材料由于其带隙可调、吸收系数高、成本低等优势在国际上备受瞩目。其中,单晶钙钛矿具有优于多晶钙钛矿的光学、电学特性,成为制备高性能光电器件的理想材料。钙钛矿晶体的抛光不仅能减少晶体表面的缺陷,提高其电学性质,而且利于电极在晶体表面蒸镀以及能够适用于其他测试方法中。CH3NH3PbI3,即MAPbI3晶体材质脆并且软,同时该晶体会和水以及一部分溶液反应,导致常规的抛光方法不能套用。现有的文献资料中暂时没有对该晶体较为有效的抛光方法。

发明内容

为了解决现有技术问题,本发明的目的在于克服已有技术存在的不足,提供一种MAPbI3晶体的抛光方法,能够有效的降低MAPbI3晶体表面的缺陷,利于其表面电极的蒸镀。在提高其电学性质的同时,也有利于该晶体内部形貌的观察。

为达到上述发明创造目的,本发明采用如下技术方案:

一种MAPbI3晶体的抛光方法,所述MAPbI3晶体为CH3NH3PbI3晶体,抛光方法包含以下步骤:

步骤一:将待抛光的MAPbI3晶体的待抛光面进行砂纸打磨处理;

步骤二:配制MAPbI3晶体抛光液;

步骤三:将在所述步骤二中配制的抛光液均匀倾倒在绒布抛光垫上,对在所述步骤一中打磨处理过的MAPbI3晶体的待抛光面进行抛光;

步骤四:使用煤油作为清洗剂,对在所述步骤三中完成抛光的MAPbI3晶体进行清洗;

步骤五:用洁净的无尘布擦去在所述步骤四中完成进行清洗后残留在MAPbI3晶体表面的煤油,获取抛光后的洁净MAPbI3晶体。本发明方法能获得理想晶体抛光表面。

优选地,在所述步骤一中,对MAPbI3晶体的待抛光面进行砂纸打磨处理,使6000目的砂纸进行打磨,除去晶体表面凹凸不平处,使晶体表面平整。进一步优选地,在使用砂纸打磨过程中,打磨力度不适宜过大,尽量减少按压晶体的过程,以防止晶体破碎;同时打磨的力度均匀,打磨方向趋于一致;使被砂纸打磨的晶体表面呈现平整的状态,通过肉眼能看到砂纸打磨留下的有规律排布的划痕,此类划痕分布均匀,深浅程度大致相同,方向趋于一致。

优选地,在所述步骤二中,对MAPbI3晶体的抛光液的配制过程包括如下步骤:

2.1抛光液溶剂的配制:

将煤油与硅油以1:9的体积比进行混合制备混合溶剂,作为抛光液溶剂;

2.2抛光粉的选择:

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