[发明专利]MAPbI3 在审
申请号: | 202110212877.7 | 申请日: | 2021-02-25 |
公开(公告)号: | CN113001376A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 徐闰;王文贞;杨亦桁;戚焕震;仝向;赖建明;徐飞;王林军 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B1/00;C09G1/02 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | mapbi base sub | ||
本发明公开了一种CH3NH3PbI3(MAPbI3)晶体的抛光方法,涉及抛光领域,包括以下步骤:准备好待抛光的晶体,对待抛光的晶体表面进行细砂纸的打磨处理;配制抛光液,通过煤油与硅油以1:9的体积比进行混合,配制抛光液溶剂;将25mL溶剂与2g氧化镁抛光粉混合后超声均匀分散,形成所用的抛光液;将抛光液均匀倾倒至金相绒布抛光垫上,对待抛光的晶体进行抛光;通过煤油对晶体进行清洗,得到理想的晶体表面。MAPbI3晶体通过此方法抛光后,表面缺陷显著减少,电学性质明显提高。
技术领域
本发明涉及抛光领域,特别涉及一种CH3NH3PbI3晶体的抛光方法,属于晶体材料表面处理技术领域。
背景技术
近年来,钙钛矿材料由于其带隙可调、吸收系数高、成本低等优势在国际上备受瞩目。其中,单晶钙钛矿具有优于多晶钙钛矿的光学、电学特性,成为制备高性能光电器件的理想材料。钙钛矿晶体的抛光不仅能减少晶体表面的缺陷,提高其电学性质,而且利于电极在晶体表面蒸镀以及能够适用于其他测试方法中。CH3NH3PbI3,即MAPbI3晶体材质脆并且软,同时该晶体会和水以及一部分溶液反应,导致常规的抛光方法不能套用。现有的文献资料中暂时没有对该晶体较为有效的抛光方法。
发明内容
为了解决现有技术问题,本发明的目的在于克服已有技术存在的不足,提供一种MAPbI3晶体的抛光方法,能够有效的降低MAPbI3晶体表面的缺陷,利于其表面电极的蒸镀。在提高其电学性质的同时,也有利于该晶体内部形貌的观察。
为达到上述发明创造目的,本发明采用如下技术方案:
一种MAPbI3晶体的抛光方法,所述MAPbI3晶体为CH3NH3PbI3晶体,抛光方法包含以下步骤:
步骤一:将待抛光的MAPbI3晶体的待抛光面进行砂纸打磨处理;
步骤二:配制MAPbI3晶体抛光液;
步骤三:将在所述步骤二中配制的抛光液均匀倾倒在绒布抛光垫上,对在所述步骤一中打磨处理过的MAPbI3晶体的待抛光面进行抛光;
步骤四:使用煤油作为清洗剂,对在所述步骤三中完成抛光的MAPbI3晶体进行清洗;
步骤五:用洁净的无尘布擦去在所述步骤四中完成进行清洗后残留在MAPbI3晶体表面的煤油,获取抛光后的洁净MAPbI3晶体。本发明方法能获得理想晶体抛光表面。
优选地,在所述步骤一中,对MAPbI3晶体的待抛光面进行砂纸打磨处理,使6000目的砂纸进行打磨,除去晶体表面凹凸不平处,使晶体表面平整。进一步优选地,在使用砂纸打磨过程中,打磨力度不适宜过大,尽量减少按压晶体的过程,以防止晶体破碎;同时打磨的力度均匀,打磨方向趋于一致;使被砂纸打磨的晶体表面呈现平整的状态,通过肉眼能看到砂纸打磨留下的有规律排布的划痕,此类划痕分布均匀,深浅程度大致相同,方向趋于一致。
优选地,在所述步骤二中,对MAPbI3晶体的抛光液的配制过程包括如下步骤:
2.1抛光液溶剂的配制:
将煤油与硅油以1:9的体积比进行混合制备混合溶剂,作为抛光液溶剂;
2.2抛光粉的选择:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110212877.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种阵列天线及通信设备
- 下一篇:一种晶圆检测装置及方法
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法