[发明专利]一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法

权利要求书

1.一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：

S1、将金相样进行研磨和抛光；

S2、将S1处理后的金相样用硫酸溶液电解；

S3、对S2中电解后的金相样重新抛光，抛光时间20-50s，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干；

S4、S3中处理后的金相样用硝酸酒精侵蚀，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干，完成原奥氏体晶界的腐蚀；

S5、对S4中得到的金相样拍摄金相照片，得到金相照片。

2.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：S2中硫酸溶液中体积比为8-20%，电解电压为3-7V，电解时间为30-60s。

3.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：S4中硝酸体积比为10-20%，侵蚀时间50-120s。

4.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述S4中的硝酸酒精侵蚀、清水冲洗、酒精清洗及吹干在侵蚀机中进行。

5.根据权利要求4所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀机包括机架（1）以及设置于机架（1）上的侵蚀工位（2）、清洗吹干工位（3），所述侵蚀工位（2）上设置有侵蚀机构（4），清洗吹干工位（3）上设置有清洗机构（5）以及吹干机构（6），侵蚀工位（2）与清洗工位之间设置有用于将金相样从侵蚀工位（2）输送到清洗工位的输送机构（7）。

6.根据权利要求5所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀机构（4）包括侵蚀槽（41）、侵蚀液贮槽（42）以及侵蚀喷淋管（43），所述侵蚀槽（41）设置有侵蚀放置架（44），侵蚀液贮槽（42）设置于机架（1）上且高度高于侵蚀放置架（44），侵蚀喷淋管（43）一端与侵蚀液贮槽（42）连接，并设置有侵蚀阀（431），另一端延伸至侵蚀放置架（44）上方，且设置有用于朝侵蚀放置架（44）喷淋的喷头（432）。

7.根据权利要求6所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀槽（41）中设置有若干毛细管（45），毛细管（45）底端浸入侵蚀槽（41）内液面中，顶端弯曲并朝向侵蚀放置架（44）上的金相样表面。

8.根据权利要求6所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述清洗机构（5）包括设置于机架（1）上的第一贮槽（51）、第二贮槽（52）、清洗槽（53），所述吹干机构（6）包括吹风机，所述清洗槽（53）中设置有用于放置金相样的清洗架（54），所述第一贮槽（51）上设置有第一清洗管（511）、第二贮槽（52）上设置有第二清洗管（521），第一清洗管（511）上设有第一清洗阀（5111），第二清洗管（521）上设有第二清洗阀（5211），第一清洗管（511）和第二清洗管（521）远离所在贮槽的一端位于清洗架（54）上方且用于向清洗架（54）上的金相样浇淋对应贮槽的液体，所述吹风机朝向清洗架（54）上的金相样用于在清洗以后进行吹干。

9.根据权利要求8所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述清洗槽（53）槽底设置有第一出水管（531）和第二出水管（533），所述第一出水管（531）连接有第一回收槽（532），所述第二出水管（533）连接有第二回收槽（534），第一出水管（531）与清洗槽（53）连通处设置有第一出水阀（5311），第二出水管（533）与清洗槽（53）连通处设置有第二出水阀（5331）。

10.根据权利要求5所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述输送机构（7）包括输送气缸组（8）以及夹紧件（9），所述输送气缸组（8）包括第一平移气缸（81）、第二平移气缸（82）和升降气缸（83），所述升降气缸（83）设置于机架（1）上且竖直向上设置，所述第一平移气缸（81）水平地设置于升降气缸（83）的活塞杆上且沿侵蚀槽（41）到清洗槽（53）方向设置，所述第二平移气缸（82）水平地设置于第一平移气缸（81）的活塞杆上且沿垂直于侵蚀槽（41）到清洗槽（53）方向设置，所述夹紧件（9）包括双向水平气缸（91）以及两夹块（92），两夹块（92）分别设置于双向水平气缸（91）的两个活塞杆上，两夹块（92）之间形成夹取金相样的夹持口，所述双向水平气缸（91）设置于第二平移气缸（82）的活塞杆上。