[发明专利]一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器有效
申请号: | 202110200722.1 | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN113030802B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 祝冉冉;徐礼磊;周家伟;陶志阔 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | G01R33/06 | 分类号: | G01R33/06 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 薛伯奇 |
地址: | 210012 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 cavet 晶体管 结构 灵敏度 磁场 传感器 | ||
1.一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:由下至上依次为源极、GaN层和AlGaN势垒层,所述GaN层和AlGaN势垒层之间异质结界面设有2DEG,所述AlGaN势垒层的两端分别设有漏极,所述AlGaN势垒层的上部设有栅极,所述GaN层由下至上依次为源层、N型GaN漂移层、电流阻断层和GaN外延层,所述电流阻断层中部设有穿孔层;
所述电流阻断层材料是SiO2;
所述AlGaN势垒层为非故意掺杂的GaN/Al0.25GaN0.75异质结构。
2. 根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述源极长为6 μm,源极厚度为10 nm。
3.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述源层的掺杂浓度为1×1018 cm-3。
4.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述N型GaN漂移层的掺杂浓度为3×1016 cm-3。
5.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述穿孔层孔径为1 μm,掺杂浓度为1×1017 cm-3。
6.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述GaN外延层的厚度为15 nm。
7.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述AlGaN势垒层厚度为15 nm、长度为5.95 μm,Al含量为0.25。
8.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述栅极长度为3 μm,宽度为10 nm,所述漏极长度为0.5 μm,厚度为25 nm。
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