[发明专利]一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器有效

专利信息
申请号: 202110200722.1 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN113030802B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 祝冉冉;徐礼磊;周家伟;陶志阔 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G01R33/06 分类号: G01R33/06
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 薛伯奇
地址: 210012 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 cavet 晶体管 结构 灵敏度 磁场 传感器
【权利要求书】:

1.一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:由下至上依次为源极、GaN层和AlGaN势垒层,所述GaN层和AlGaN势垒层之间异质结界面设有2DEG,所述AlGaN势垒层的两端分别设有漏极,所述AlGaN势垒层的上部设有栅极,所述GaN层由下至上依次为源层、N型GaN漂移层、电流阻断层和GaN外延层,所述电流阻断层中部设有穿孔层;

所述电流阻断层材料是SiO2

所述AlGaN势垒层为非故意掺杂的GaN/Al0.25GaN0.75异质结构。

2. 根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述源极长为6 μm,源极厚度为10 nm。

3.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述源层的掺杂浓度为1×1018 cm-3

4.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述N型GaN漂移层的掺杂浓度为3×1016 cm-3

5.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述穿孔层孔径为1 μm,掺杂浓度为1×1017 cm-3

6.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述GaN外延层的厚度为15 nm。

7.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述AlGaN势垒层厚度为15 nm、长度为5.95 μm,Al含量为0.25。

8.根据权利要求1所述的一种基于类CAVET晶体管结构的高灵敏度磁场传感器,其特征在于:所述栅极长度为3 μm,宽度为10 nm,所述漏极长度为0.5 μm,厚度为25 nm。

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