[发明专利]一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置在审
申请号: | 202110183742.2 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN112987368A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 马涛 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1362;G02B1/11 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何志军 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 液晶显示 面板 液晶 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
衬底基板;
平坦化层,位于所述衬底基板之上;
公共电极层,位于所述平坦化层之上;
像素电极层,位于所述公共电极层之上;
其中,所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧表面形成有多个凹陷部,所述平坦化层与所述公共电极层之间设有用于提升光线穿透率的增透层,所述增透层填充所述多个凹陷部。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凹陷部的截面形状为圆弧形。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述增透层的材料为微晶纳米材料。
4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述增透层仅设置在所述凹陷部内。
5.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述增透层设置在所述凹陷部内以及所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧表面。
6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板与所述平坦化层之间设有薄膜晶体管阵列。
7.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述凹陷部在对应于薄膜晶体管放置区的分布密度大于对应于非薄膜晶体管放置区的分布密度。
8.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,对应于薄膜晶体管放置区的所述凹陷部在所述衬底基板上的投影面积大于对应于非薄膜晶体管放置区的所述凹陷部在所述衬底基板上的投影面积。
9.一种液晶显示面板,其特征在于,包括如权利要求1至8任一项所述的阵列基板、彩膜基板以及设于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶分子层。
10.一种液晶显示装置,其特征在于,包括背光模组以及设于所述背光模组之上的如权利要求9所述的液晶显示面板。
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