[发明专利]一种生成电子束毛化扫描波形的方法和系统

权利要求书

1.一种生成电子束毛化扫描波形的方法，其特征在于，包括步骤：

对目标阵列图形的特点进行分析，并将所述目标阵列图形转化为扫描波形的特征参数；

分析所述扫描波形中单个造型单元的点分布特征及规律，对所述造型单元的点坐标进行计算；

分析同一行中所述造型单元之间的分布特征及规律，计算行中的点坐标；

分析相邻两行造型单元之间的分布特征及规律，计算相邻两行的点坐标；

分析剩余造型阵列的分布特征及规律，计算剩余点坐标，生成电子束毛化扫描波形。

2.根据权利要求1所述的生成电子束毛化扫描波形的方法，其特征在于，所述造型单元包括单线阵列形、十字交叉形或星形；所述扫描波形的特征参数包括：造型单元类型、造型单元列间距离、造型单元行间距离、相邻行错位量、行数、列数。

3.根据权利要求1所述的生成电子束毛化扫描波形的方法，其特征在于，所述分析所述扫描波形中单个造型单元的点分布特征及规律，对所述造型单元的点坐标进行计算，包括步骤：

将所述目标阵列图形的左上角设为起始点；

分析所述造型单元在所述目标阵列图形中的位置关系，根据所述起始点计算所述造型单元的第一个点的坐标；

根据所述造型单元中第一个点与其他点之间的关系，计算其他点的坐标；其中所述第一个点设置为所述造型单元左上角的点。

4.根据权利要求3所述的生成电子束毛化扫描波形的方法，其特征在于，所述分析同一行中所述造型单元之间的分布特征及规律，计算行中的点坐标，包括步骤：

获取相同行中、相邻列之间的列间距；所述列间距是指相同行中、相邻两个造型单元的相应位置上的点之间的距离；

根据已计算得到坐标的所述造型单元的点坐标为参考坐标；

根据所述参考坐标与同一行中其他所述造型单元之间的分布特征及规律，计算其他造型单元的坐标，得到行坐标。

5.根据权利要求4所述的生成电子束毛化扫描波形的方法，其特征在于，所述分析相邻两行造型单元之间的分布特征及规律，计算相邻两行的点坐标，包括步骤：

获取相邻行之间的行间距和错位量，所述行间距是指相同列中、相邻两个造型单元的相应位置上的点之间的距离；

结合已计算得到坐标的所述行坐标、行间距和错位量，得到所述目标阵列图形其他行的坐标。

6.一种生成电子束毛化扫描波形的系统，其特征在于，包括：

分析转化模块，用于对目标阵列图形的特点进行分析，并将所述目标阵列图形转化为扫描波形的特征参数；

造型单元点坐标计算模块，用于分析所述扫描波形中单个造型单元的点分布特征及规律，对所述造型单元的点坐标进行计算；

行坐标计算模块，用于分析相邻两行造型单元之间的分布特征及规律，计算相邻两行的点坐标；

剩余坐标计算模块，用于分析剩余造型阵列的分布特征及规律，计算剩余点坐标，生成电子束毛化扫描波形。

7.一种生成电子束毛化扫描波形的系统，其特征在于，所述造型单元点坐标计算模块包括：

起始点设置模块，用于将所述目标阵列图形的左上角设为起始点；

第一个点的坐标计算模块，用于分析所述造型单元在所述目标阵列图形中的位置关系，根据所述起始点计算所述造型单元的第一个点的坐标；

其他点计算模块，用于根据所述造型单元中第一个点与其他点之间的关系，计算其他点的坐标；其中所述第一个点设置为所述造型单元左上角的点。

8.一种生成电子束毛化扫描波形的系统，其特征在于，所述目标阵列图形包括单线阵列形、十字交叉型或星型；所述扫描波形的特征参数包括：造型单元类型、造型单元列间距离、造型单元行间距离、相邻行错位量、行数、列数。

9.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器处理上述所述的生成电子束毛化扫描波形的方法的步骤。

10.一种电子设备，该电子设备包括：

处理器；以及，

被安排成存储计算机可执行指令的存储器，所述可执行指令在被执行时使所述处理器执行上述所述生成电子束毛化扫描波形的的方法。