[发明专利]用于容纳基板的容器及控制一容器的进气分流方法

说明书

本发明提出一种用于容纳基板的容器及控制一容器的进气分流方法，包含：一基座，具有至少一第一支撑面；及一盒盖，具有至少一第二支撑与该基座的第一支撑面啮合，借以界定用于容纳该基板的一容纳空间。该基座的第一支撑面与该盒盖的第二支撑面有一致的倾斜度，且该基座的第一支撑面的一平面度与该盒盖的第二支撑面的一平面度皆小于0.04毫米，以在该第一支撑面与该第二支撑面相接触时于其间形成一密封。

技术领域

本发明是关于一种用于传送图案基板的传送盒，尤其是一种用于传送光掩模的两件式容器，包含能够提供有效密封、精准标记与稳定固持的光罩盒。

背景技术

半导体制造所需的基板(像是晶圆、光罩)，其运送的过程是容置在特殊的容器内。这是为了防止基板在运送过程中受到来自非真空环境的污染，如空气中的粒子，导致半导体制程产生瑕疵。

图1显示一种现有极紫外光光掩模传送盒，该传送盒包括一内盒组件110以及一外盒组件150。内盒组件110用以容置一光掩模R，并且包括一下盖120及一上盖130。下盖120包括四个支撑件121，用以支撑光掩模R。上盖130用以与下盖120对接，且上盖130设置有对应四个支撑件121的四个压抵单元140，用以压抵于光掩模R的表面。压抵单元140包括一压抵件，该压抵件具有一受压部及一压抵部，其中该受压部外露于上盖130的顶面而用以接受来自外盒组件150的外盖170的下压支柱171，该受压部被下压后，该压抵部可穿出上盖130的底面而压抵于光掩模R的表面。外盒组件150用以容置内盒组件110，并且包括一基座160及一外盖170，基座160具有多个支柱190以支持内盒组件110的下盖120，并用以与外盖170相互对接密封。外盖170内侧底面具有对应四个压抵单元140的四个下压支柱171，用以与压抵单元140的压抵件的受压部发生面接触。当收容光掩模R的内盒组件110容置于外盒组件150内后，下压支柱171作用于压抵单元140的压抵件的受压部，可使压抵单元140与支撑件121固持光掩模R。

现有极紫外光光掩模传送盒100的内盒组件110有以下待解决的技术问题：其一，压抵单元140的压抵件外露于上盖130的顶面且可穿出上盖130的底面，使上盖130增加微粒经由容置压抵件的空间进入内腔污染光掩模R的风险。其二，当收容光掩模R的内盒组件110未置入外盒组件150，上盖130的四个压抵单元140的压抵件的压抵部未穿出上盖130的底面，此时光掩模R未受压抵单元140与支撑件121的固持，增加光掩模R的任何位移或震动产生微粒的风险。其三，当收容光掩模R的内盒组件110置于外盒组件150的基座160，外盖170盖合过程容易使下压支柱171透过压抵单元140碰撞光掩模R，增加光掩模R的任何位移或震动产生微粒的风险。

在现有的技术中，如中国台湾公开第200304051号专利文献就提供了一种用于容置光掩模的两件式容器，即该容器是由一外盒和一内盒所构成，且内盒容置于外盒内，而光掩模容置于内盒中。光掩模在制程中的利用大多是在高真空环境下进行，因此容纳光掩模的容器在运送过程有机会在真空环境与大气压环境之间切换，或者将已抽真空的容器送到大气压环境下。为了避免容器内外压力差导致气流将微粒吹扫进入内腔放置光掩模区域，容器在内腔与外部空间之间设置一过滤通道以过滤微粒。因此，容器在内腔与外部空间之间非过滤通道的密封可确保其内外压力差不会导致气流通过非过滤通道而将微粒吹扫进入光掩模区域。该公开的技术提供一种密封手段，其在内盒和外盒之间提供一颗粒密封装置(如O型环)，以及在外盒的盒盖与基座的接触面提供一气密装置(如另一O型环)。这些配置在真空环境下增加污染进入光掩模区域的困难性。该公开的技术提供内盒具有一盒盖和一基座，两者定义用于容纳光掩模的容纳空间，但盒盖和基座的接触面没有配置O型环。换言之，内盒的密封仅是由盒盖和基座所形成的接触面所实现，但该公开技术并没有公开或教示如何定义或控制所述接触面来实现有效的密封。