[发明专利]用于容纳基板的容器及控制一容器的进气分流方法

权利要求书

1.一种用于容纳一基板的容器，其特征在于，该容器包含：

一基座，具有一顶部水平面与至少一环绕该顶部水平面的第一支撑面；以及

一盒盖，用于环绕该基座的顶部水平面而与该基座的第一支撑面啮合，借以界定用于容纳该基板的一容纳空间，该盒盖具有至少一过滤通道以及至少一环绕该容纳空间的第二支撑面，该第二支撑面用以与该基座的第一支撑面配合，该基座的第一支撑面与该盒盖的第二支撑面相较于该基座的顶部水平面有一致的倾斜度，且该基座的第一支撑面的一平面度与该盒盖的第二支撑面的一平面度皆小于0.04毫米，以在该第一支撑面与该第二支撑面相接触时于其间形成一密封。

2.如权利要求1所述的容器，其特征在于，当该过滤通道封闭时，借由该第一支撑面与该第二支撑面的所述平面度所形成的该密封，该容纳空间与该容器的外部空间之间具有一预设的压力差。

3.如权利要求2所述的容器，其特征在于，该预设的压力差为100Pa以上。

4.如权利要求1所述的容器，其特征在于，当该容纳空间为真空，且当该容器的一外部空间为气体回升时，借由该第一支撑面与该第二支撑面的所述平面度所形成的该密封，进入该容纳空间的气流至少有90％是经由该过滤通道。

5.如权利要求1所述的容器，其特征在于，当该容纳空间为真空，且当该容器的一外部空间为气体回升时，借由该第一支撑面与该第二支撑面的所述平面度所形成该密封，进入该容纳空间的气流有10％以下是经由该第一支撑面与该第二支撑面之间的间距。

6.如权利要求1所述的容器，其特征在于，该基座的第一支撑面的一面粗糙度与该盒盖的第二支撑面的一面粗糙度皆介于13至100纳米。

7.如权利要求1所述的容器，其特征在于，该基座具有至少二环绕该顶部水平面的第一支撑面，多个该第一支撑面与该第二支撑面相较于该顶部水平面有一致的倾斜度，且多个该第一支撑面其中的最大平面度小于0.04毫米。

8.如权利要求7所述的容器，其特征在于，该基座在两个第一支撑面之间形成有环绕该顶部水平面的一沟槽。

9.如权利要求1所述的容器，其特征在于，该第一支撑面与该第二支撑面相接触时于其间形成环绕该顶部水平面的至少一接触面。

10.如权利要求9所述的容器，其特征在于，该接触面具有一不超过0.08毫米的间距。

11.如权利要求9所述的容器，其特征在于，该接触面的一部份平面不是位于或不是平行该顶部水平面所处的一平面。

12.如权利要求9所述的容器，其特征在于，该基座具有至少二环绕该顶部水平面的第一支撑面，多个该第一支撑面与该第二支撑面相接触时形成至少二环绕该顶部水平面的接触面。

13.如权利要求12所述的容器，其特征在于，该基座具有至少一环绕该顶部水平面的沟槽，该沟槽间隔于两接触面之间。

14.如权利要求9所述的容器，其特征在于，至少一该接触面不是位于或不是平行该顶部水平面所处的一平面。

15.一种用于容纳一基板的容器，其特征在于，该容器包含：

一基座，具有一顶部水平面；以及

一盒盖，具有至少一过滤通道与一收容空间，其中该盒盖与该基座相接触时，该收容空间与该顶部水平面界定一用于容纳该基板的容纳空间，且于其间形成至少一环绕该容纳空间的接触面，以密封该容纳空间，该接触面具有一不超过0.08毫米的间距。

16.如权利要求15所述的容器，其特征在于，该接触面的该基座的一面与该盒盖的一面皆具有一平面度，且该平面度皆小于0.04毫米。