[发明专利]一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备在审
| 申请号: | 202110115295.7 | 申请日: | 2021-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN112882352A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
| 发明(设计)人: | 韩永林 | 申请(专利权)人: | 江苏特纳马智能制造有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市相城经济*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 曝光 玻璃 表面温度 稳定 设备 | ||
本发明公开了一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备,包括地板与其上方的高架地板,地板端面一侧分别设有第一电控箱、第一控制单元、第二电控箱与第二控制单元,高架地板上端分别设有第一温度控制装置与第二温度控制装置,两个温度控制装置分别通过多根回风管与第一控制单元、第二控制单元连接。本发明的有益效果:通过九组出风单元对玻璃基板进行温度控制,九组出风单元可分区域调整温度,保养成本低,而且维护的时间短,而且为了维持温度的稳定性,特别设计回风循环方式保证了温度的稳定,通过出风单元吹出后再通过回风管道进行回收再循环。
技术领域
本发明涉及玻璃基板冷却温控技术领域,具体为一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备。
背景技术
现有技术中,曝光机内的玻璃基板对温控的稳定性要求比较高,需要控制在23℃左右,现有的温控设备成本较高,冷风对玻璃基板进行冷却后,随之排出,能耗较高,而且维护的时间较长,保养的成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备,包括地板与其上方的高架地板,所述地板端面一侧分别设有第一电控箱、第一控制单元、第二电控箱与第二控制单元,所述高架地板上端分别设有第一温度控制装置与第二温度控制装置,所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置分别通过多根回风管与所述第一控制单元、所述第二控制单元连接。
优选的,所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置其下端均设有气流加热分散装置。
优选的,所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置至少通过三根所述回风管与所述第一控制单元连接。
优选的,所述气流加热分散装置下端设有与所述第一控制单元连接的风管。
优选的,所述第一温度控制装置、所述第二温度控制装置分别设有与所述第一电控箱、所述第二电控箱连接的电缆。
优选的,多根所述回风管接口处均设有温度传感器。
优选的,所述温度控制装置与所述第二温度控制装置内均设有九组出风单元。
优选的,九组所述出风单元下端均放置有玻璃基板,且所述玻璃基板与九组所述出风单元出风口距离为二十至二十五毫米。
优选的,所述玻璃基板厚度为零点四至零点七毫米。
有益效果
本发明所提供的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备,通过九组出风单元对玻璃基板进行温度控制,九组出风单元可分区域调整温度,保养成本低,而且维护的时间短,而且为了维持温度的稳定性,特别设计回风循环方式保证了温度的稳定,通过出风单元吹出后再通过回风管道进行回收再循环。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明的内部结构示意图。
附图标记
1-第一温度控制装置,2-第二温度控制装置,3-第一控制单元,4-第二控制单元,5-,6-回风管,7-地板,8-高架地板,9-第一电控箱,10-第二电控箱,11-风管,12-气流加热分散装置。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图,对本发明的技术方案作进一步的描述,但本发明并不限于这些实施例。
实施例
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