[发明专利]一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备在审
| 申请号： | 202110115295.7 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112882352A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 韩永林 | 申请（专利权）人： | 江苏特纳马智能制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市相城经济*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 玻璃 表面温度 稳定 设备 | ||
1.一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，包括地板(7)与其上方的高架地板(8)，其特征在于：所述地板(7)端面一侧分别设有第一电控箱(9)、第一控制单元(3)、第二电控箱(10)与第二控制单元(4)，所述高架地板(8)上端分别设有第一温度控制装置(1)与第二温度控制装置(2)，所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)分别通过多根回风管(6)与所述第一控制单元(3)、所述第二控制单元(4)连接。
2.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)其下端均设有气流加热分散装置(12)。
3.根据权利要求2所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)至少通过三根所述回风管(6)与所述第一控制单元(3)连接。
4.根据权利要求2所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述气流加热分散装置(12)下端设有与所述第一控制单元(3)连接的风管(11)。
5.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)、所述第二温度控制装置(2)分别设有与所述第一电控箱(9)、所述第二电控箱(10)连接的电缆。
6.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：多根所述回风管(6)接口处均设有温度传感器。
7.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)内均设有九组出风单元。
8.根据权利要求7所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：九组所述出风单元下端均放置有玻璃基板，且所述玻璃基板与九组所述出风单元出风口距离为二十至二十五毫米。
9.根据权利要求8所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述玻璃基板厚度为零点四至零点七毫米。
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