[发明专利]一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法

权利要求书

1.一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)表面处理：对待复合金属板带的基材和复材进行表面处理；

2)物理气相沉积：对基材的待复合面物理气相沉积一层与复材同种金属的沉积层；

3)制坯：将基材与复材的待复合面对扣进行制坯，得到双层复合带坯；

4)加热炉加热：将双层复合带坯放入真空加热炉中进行加热和保温；

5)激光补热：在双层复合带坯的基材侧接近辊缝的位置，施加激光能场对双层复合带坯进行激光补热；

6)轧制：将激光补热后的双层复合带坯送入轧机轧制到所需厚度，得到双层复合带；

7)成品热处理：利用退火炉对双层复合带进行再结晶退火处理和冷却处理，得到金属复合带成品；

8)精整：对得到的金属复合带成品进行矫直、剪切及缺陷清理，得到合格的金属复合带成品。

2.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：所述基材的变形抗力大于复材的变形抗力。

3.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：所述步骤1)表面处理：对待复合金属板带的基材和复材进行表面处理的具体步骤为：采用打磨机清理基材和复材的待复合面，直至见到新鲜金属基体，随后将基材放置在超声波清洗机中用无水乙醇清洗表面，把复材放置在超声波清洗机中用去离子水清洗表面，再将清洗过的基材和复材烘干。

4.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：所述步骤2)物理气相沉积：对基材的待复合面物理气相沉积一层与复材同种金属的沉积层的具体步骤为：

2.1)将烘干后的基材放置于物理气相沉积装置中，随后对物理气相沉积装置进行抽真空处理，使其真空度为1×10^-3～1×10^-4Pa；

2.2)调整物理气相沉积装置的工艺参数，使沉积率达到0.5～0.6μm/min，对基材的待复合面进行单侧沉积，沉积时间为20～30min；

2.3)将单侧沉积得到的基材，在氢气的保护下进行退火处理，形成靶材沉积层，完成物理气相沉积工艺。

5.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：所述步骤3)制坯：将基材与复材的待复合面对扣进行制坯，得到双层复合带坯的具体步骤为：将基材与复材的待复合面对扣，将对扣后的基材与复材的周边封装焊接，在焊缝上钻孔，对基材与复材之间的空腔进行抽真空，随后封闭该孔，得到双层复合带坯。

6.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法，其特征在于：所述步骤6)中的轧机为二辊轧机、四辊轧机、六辊轧机、二十辊轧机或异步轧机中的任意一种。