[发明专利]用于极紫外线微影装置的腔室中处理晶圆的方法在审
| 申请号： | 202110089445.1 | 申请日： | 2021-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN114308959A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈道信;陈立锐;李佳祐 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 紫外线 装置 腔室中 处理 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于一极紫外线微影装置的一腔室中处理一晶圆的方法，其特征在于，该极紫外线微影装置包括：
一晶圆台，包括一量测侧及一曝光侧；以及
一颗粒移除组件，具有安置在该极紫外线微影装置中的颗粒移除电极、一排气元件及多个涡轮分子泵，
该方法包括：
将一晶圆放置在该腔室中的一晶圆卡盘上；
在该腔室中产生一排气流；
对该晶圆台的与所述多个涡轮分子泵相邻的该量测侧执行一调平制程；
将一电压提供至定位成与该晶圆卡盘相邻的所述颗粒移除电极；
将固持该晶圆的该晶圆卡盘移动至该晶圆台的该曝光侧；以及
通过极紫外线执行一微影制程。
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