[发明专利]一种致密氮氧化铬阻氢渗透涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于，该制备方法包括以下步骤：

(1)以铂片电极为阳极，以基材为阴极电镀金属Cr以得到Cr镀层；

(2)将所述Cr镀层干燥后置于含氮气氛中进行热处理氮化以形成Cr₂N/Cr涂层；

(3)将Cr₂N/Cr涂层置于空气中进行热处理以得到Cr₂N/Cr₂O₃阻氢渗透涂层。

2.如权利要求1所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：Cr镀层的厚度为5μm～7μm。

3.如权利要求1所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所采用的电镀温度为10℃～100℃，电流密度为0.01A/cm²～3A/cm²，电镀时间为40min～120min。

4.如权利要求1所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：步骤(2)中热处理时采用的热处理升温速率为3℃/min～10℃/min，保温时间为大于0.5h。

5.如权利要求1-4任一项所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：含氮气氛是氨气、氮气中的一种或组合。

6.如权利要求1-4任一项所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)中热处理时采用的热处理升温速率为3℃/min～15℃/min。

7.如权利要求1-4任一项所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法，其特征在于：将CrO₃、浓H₂SO₄加入去离子水溶解并充分搅拌以形成步骤(1)中所采用的镀液；步骤(2)中所采用的氮化温度为700℃，氮化时间为2h。

8.一种致密氮氧化铬阻氢渗透涂层，其特征在于：所述致密氮氧化铬阻氢渗透涂层是采用权利要求1-7任一项所述的致密氮氧化铬阻氢渗透涂层的制备方法制备而成的。