[发明专利]用于探测容器中的填充介质的料位的料位传感器在审
申请号: | 202110060983.8 | 申请日: | 2021-01-18 |
公开(公告)号: | CN113137998A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | R·施托希 | 申请(专利权)人: | 克洛纳测量技术有限公司 |
主分类号: | G01F23/284 | 分类号: | G01F23/284;H01P1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 姬亚东;刘春元 |
地址: | 德国杜*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 探测 容器 中的 填充 介质 传感器 | ||
1.一种用于探测容器中的填充介质的料位的料位传感器(1),
- 其中所述料位传感器(1)具有:带馈电线(9)的发生器(8)、天线(10)、馈电器(11)和控制器(12),
- 其中所述发生器(8)被构造用于产生具有谐振频率的电磁波并且经由所述馈电线(9)来输出所述电磁波,所述馈电线具有线路阻抗,所述线路阻抗具有线路阻抗值,
- 其中所述馈电器(11)布置在所述馈电线(9)与所述天线(10)之间,并且被构造用于将所述电磁波从所述馈电线(9)朝向所述天线(10)传输,
- 其中所述天线(10)被构造用于将所述电磁波辐射到具有填充介质的容器中,
- 其中将所述电磁波沿传输方向(22)从所述馈电线(9)经由所述馈电器(11)朝向所述天线(10)传输,而且
- 其中所述控制器(12)被构造用于探测由所述天线(10)辐射的电磁波的由于容器中的填充介质的料位变化引起的在所述天线(10)周围的近场的变化并且被构造用于通过分析所探测到的所述近场的变化来探测所述容器中的填充介质的料位,
其特征在于,
- 所述馈电器(11)具有谐振电路(19),
- 所述谐振电路(19)和所述天线(10)沿所述传输方向(22)共同具有谐振输入阻抗(ZR),并且所述谐振电路(19)将在所述谐振频率下的谐振输入阻抗(ZR)转换成具有预先给定的谐振阻抗值的实阻抗,而且
- 所述天线(10)具有与所述谐振频率不同的天线谐振频率。
2.根据权利要求1所述的料位传感器(1),其特征在于,所述馈电器(11)具有终端电路(20);而且所述终端电路(20)、所述谐振电路(19)和所述天线(10)沿所述传输方向(22)共同具有终端输入阻抗(ZE),并且所述终端电路(20)将所述终端输入阻抗(ZE)设置到所述线路阻抗值。
3.根据权利要求2所述的料位传感器(1),其特征在于,所述终端电路(20)具有四分之一波长线,其中所述四分之一波长线优选地在使用空气隙的情况下被实现。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述天线谐振频率大于所述谐振频率。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述谐振频率在微波的频率范围内。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述天线(10)被构造用于与所述填充介质直接接触。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述控制器(12)被构造用于报告所探测到的所述填充介质的料位。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述馈电器(11)具有圆柱形内导体(14)和空心圆柱形外导体(15),用于传输所述电磁波,而且所述外导体(15)和所述内导体(14)彼此同轴地布置。
9.根据权利要求8所述的料位传感器(1),其特征在于,所述内导体(14)的部分(23)形成所述天线(10)。
10.根据权利要求8或9所述的料位传感器,其特征在于,所述谐振电路(19)和/或所述终端电路(20)布置在所述内导体(14)与所述外导体(15)之间。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述外导体(15)具有散热片(16)。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的料位传感器(1),其特征在于,所述谐振电路(19)具有电介质(17)和高频吸收体(18),其中所述电介质(17)优选地是玻璃、尤其是金属熔融玻璃。
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