[发明专利]一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃

权利要求书

1.一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：包括透明陶瓷基底、光子带隙结构层与减反膜系结构层，所述透明陶瓷基底采用镁铝尖晶石透明陶瓷制备，所述光子带隙结构层Ag-ITO-Ag多层膜结构，通过多靶磁控溅射镀膜技术附着在透明陶瓷基底的一侧，所述减反膜系结构层包括由Nb₂O_5、SiO₂与MgF₂通过多靶磁控溅射镀膜技术迭代附着在光子带隙结构层上。

2.根据权利要求1所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：与光子带隙结构层不同侧的透明陶瓷基底的一面也附着有一层减反膜结构层。

3.根据权利要求2所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：与光子带隙结构层不同侧的透明陶瓷基底的一面与减反膜结构层之间还附着有一层加热薄膜。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：光子带隙结构层的Ag-ITO-Ag多层膜结构，由厚度分别为10nm、5nm、10nm的Ag薄膜与ITO薄膜进行迭代制成。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：所述Nb₂O₅为高折射率材料，所述SiO₂为低折射率材料。

6.根据权利要求1所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：在多靶磁控溅射镀膜技术镀膜过程中，用作溅射源的ITO、Ag、Nb₂O₅与SiO₂的纯度至少为99.99％。

7.根据权利要求6所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：在多靶磁控溅射镀膜技术镀膜过程中，使用氩气和氧气为溅射工艺气体。

8.根据权利要求6所述的一种透明陶瓷基底的高屏效高透光耐温耐压屏蔽瞄准玻璃，其特征在于：ITO薄膜的溅射工艺条件为温度为350℃，溅射功率为1500W，Ar流量为50SCCM，Ar流量为0.5SCCM。