[发明专利]一种纳米管光催化杀菌剂、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：制备具有SnO₂纳米管的多孔氧化铝模板

取多孔氧化铝模板，浸泡于浓度为0.02mol/mL-0.1mol/mL的SnCl₄·5H₂O水溶液中；

从上述SnCl₄·5H₂O水溶液中取出多孔氧化铝模板，经高温煅烧后，得到具有SnO₂纳米管的多孔氧化铝模板；

将上述具有SnO₂纳米管的多孔氧化铝模板冲洗干净，干燥后，得到干燥的具有SnO₂纳米管的多孔氧化铝模板；

步骤2：制备TiO₂和SnO₂复合的纳米管

将步骤1得到的干燥的具有SnO₂纳米管的多孔氧化铝模板，浸泡于浓度为0.05mol/mL-0.15mol/mL的钛酸丁酯溶液中,得到具有TiO₂和SnO₂复合纳米管的多孔氧化铝模板；

从上述钛酸丁酯溶液中取出具有TiO₂和SnO₂复合纳米管的多孔氧化铝模板，去除其中的多孔氧化铝模板后，再冲洗干净，干燥，得到TiO₂和SnO₂复合的纳米管；

步骤3：制备Ag改性的TiO₂和SnO₂复合的纳米管光催化杀菌剂

将步骤2得到的TiO₂和SnO₂复合的纳米管等体积浸渍到浓度为0.2mol/L-0.6mol/L的AgNO₃水溶液中，混合均匀，过滤，取沉淀物，然后干燥，退火，得到Ag改性的TiO₂和SnO₂复合的纳米管光催化杀菌剂。

2.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述多孔氧化铝模板为单通，孔径为30nm，孔间距为65nm，孔深为5μm±0.2μm。

3.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述浸泡的温度为25℃-30℃，时间为4h；所述高温煅烧的温度为550℃,时间为2h。

4.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述冲洗是先采用无水乙醇冲洗3-4次，再采用蒸馏水冲洗3-4次；所述干燥的温度为60℃，时间为6h。

5.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述浸泡的温度为25℃-30℃，时间为4h；所述去除其中的多孔氧化铝模板，是指用浓度为2mol/L的NaOH溶液，溶解所述具有TiO₂和SnO₂复合纳米管的多孔氧化铝模板。

6.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述冲洗是先采用无水乙醇冲洗3-4次，再采用蒸馏水冲洗3-4次；所述干燥的温度为60℃，时间为6h。

7.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述过滤采用的筛网的孔径为200nm；所述干燥的温度为60℃，时间为6h。

8.根据权利要求1所述的纳米管光催化杀菌剂的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述退火的温度为550℃,时间为2h。

9.权利要求1-8任一项所述的制备得到的纳米管光催化杀菌剂。

10.权利要求1-8任一项所述的制备方法制备得到的纳米管光催化杀菌剂在制备杀菌产品中的应用。