[发明专利]环境遮蔽渲染方法、装置、存储介质及电子设备

说明书

本公开涉及图像处理领域，具体涉及一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备。该环境遮蔽渲染方法包括确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。本公开的环境遮蔽渲染方法能够在模拟环境遮蔽效果的同时，降低CPU的开销。

技术领域

本公开涉及图像处理领域，具体涉及一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备。

背景技术

在实时渲染的应用中，当角色处于室内或者大面积阴影内部时，脚下就失去了明暗对比。对于PC或者游戏主机而言，一般采用屏幕空间的环境遮蔽效果来解决这个问题，但是在移动平台，由于受性能以及发热的限制，需要一种更轻量的解决方案。

在现有技术中，通常采用两种方法来解决这个问题：

一种是使用面片，通过在角色脚下创建一个面片，使用一张圆形的纹理采取alphablend进行绘制。但这种方法在地面有坡度或者凹凸不平时，可能会造成错误的遮挡关系，或者采用软粒子的方式柔和插入到地面的硬边，但阴影效果较差。

另一种是利用projector的方式进行阴影绘制，首先通过projector的视景体裁剪出处于projector内的模型，然后对这些模型传入projector的投影矩阵再渲染一遍，以得到采样uv。但这种方法需要CPU做一次视景体裁剪，消耗CPU性能，另外，被投影的模型需要再渲染一遍，如果模型面数巨大，则造成比较大的CPU开销。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备，旨在模拟环境遮蔽效果的同时，降低CPU的开销。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开实施例的一个方面，提供了一种环境遮蔽渲染方法，包括：确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。

根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点，包括：获取位于相机坐标空间的目标对象对应的渲染模型；根据所述渲染模型计算视景体模型；渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。

根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点，包括：渲染所述视景体模型的第一面得到第一渲染模型，对所述第一渲染模型进行深度测试，计算第一模板数值；渲染所述视景体模型的第二面得到第二渲染模型，对所述第二渲染模型进行深度测试，基于第一模板数值计算第二模板数值；根据所述第二模板数值标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。

根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述视景体模型的第一面包括面向相机的一面或远离相机的一面。

根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述方法还包括：计算所述采样点的世界坐标，包括：渲染所述视景体模型以获取所述采样点的深度值；根据所述采样点的深度值计算所述采样点的世界坐标。