[发明专利]环境遮蔽渲染方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种环境遮蔽渲染方法，其特征在于，包括：

确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；

将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；

确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。

2.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点，包括：

获取位于相机坐标空间的目标对象对应的渲染模型；

根据所述渲染模型计算视景体模型；

渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。

3.根据权利要求2所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点，包括：

渲染所述视景体模型的第一面得到第一渲染模型，对所述第一渲染模型进行深度测试，计算第一模板数值；

渲染所述视景体模型的第二面得到第二渲染模型，对所述第二渲染模型进行深度测试，基于第一模板数值计算第二模板数值；

根据所述第二模板数值标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。

4.根据权利要求3所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述视景体模型的第一面包括面向相机的一面或远离相机的一面。

5.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述方法还包括：计算所述采样点的世界坐标，包括：

渲染所述视景体模型以获取所述采样点的深度值；

根据所述采样点的深度值计算所述采样点的世界坐标。

6.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图，包括：

利用投影组件将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，以获取透视矩阵；

根据所述透视矩阵和所述采样点的世界坐标计算投影贴图；

采样阴影纹理，并根据所述阴影纹理将所述投影贴图生成所述纹理贴图。

7.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，包括：

根据所述采样点的投影位置坐标和世界坐标计算所述采样点的高度差；以及

设置环境遮蔽渐变距离；

根据所述高度差和所述环境遮蔽渐变距离计算所述环境遮蔽渲染值。

8.一种环境遮蔽渲染装置，其特征在于，包括：

标记模块，用于确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；

投影模块，用于将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；

绘制模块，用于确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。

9.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的环境遮蔽渲染方法。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

一个或多个处理器；

存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行时，使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1至7任一项所述的环境遮蔽渲染方法。