[发明专利]一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置

说明书

本发明提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，涉及单晶硅加工技术领域，以解决现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差的问题，包括主体，缓冲件；所述主体为环状结构，且主体的外侧为倾斜状结构；所述缓冲件为橡胶材质，且缓冲件安装在固定件的内部。密封仓是用来作为反应室使用的，使得单晶硅在蚀刻的时候，可以在密封仓的内部加工，密封仓可以嵌入到固定件的内部，进而使密封板的底部可以与缓冲件接触，使得缓冲件可以辅助密封仓缓冲冲击力，在与缓冲件接触的同时，卡槽的内部插入安装有卡块，进而使密封仓可以与主体稳固连接，进而使密封仓可以被稳固的支撑使用。

技术领域

本发明属于单晶硅加工技术领域，更具体地说，特别涉及传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置。

背景技术

传感器用单晶硅在刻蚀的过程中，片架容易出现位移以及不稳定的现象，进而影响加工效果，这时就需要用到片架定位装置。

例如申请号：CN202010783901.8中涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室，所述反应室顶部贯通固定设有进气管，所述进气管一端部贯通固定连接有气源室，所述反应室一侧底部贯通固定设有出气管，所述出气管一端部固定连接有真空泵，所述反应室底部固定设有驱动电机，通过设置驱动电机，驱动电机可以带动主动皮带轮旋转，主动皮带轮可以通过皮带带动从动皮带轮旋转，从动皮带轮可以通过轴杆带动凸形转盘旋转，进而可以带动片架旋转，可以增加单晶硅与等离子体的接触均度，伸缩定位杆可以对定位圆环进行支撑固定，通过旋转螺纹筒调节伸缩定位杆的长度即可，便于拆卸固定，适合不同直径的反应室使用，套筒通过固定螺栓固定在片架顶部外侧，方便拆卸安装。

基于现有技术发现，现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差，且现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，片架松动之后，无法调节加紧，使用起来较为不便。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，以解决现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差，且现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，片架松动之后，无法调节加紧，使用起来较为不便的问题。

本发明一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括主体，缓冲件，密封仓，密封板，旋转架，支撑件和收集件；所述主体为环状结构，且主体的外侧为倾斜状结构；所述缓冲件为橡胶材质，且缓冲件安装在固定件的内部；所述密封板通过转轴安装在密封仓的开口内部，且密封板的限位孔内部插入安装有插杆的底部；所述旋转架为片架本体，且旋转架安装在密封仓的内部，并且旋转架的轴杆与电机的传动轴相连接；所述收集件安装在旋转架的底部外侧，且收集件的挡块底部与底件的顶端外侧相接触；

所述密封仓包括有卡槽，控制槽，插杆，所述密封仓为反应室本体，且密封仓的底部安装有电机以及真空泵，并且密封仓的前端设有开口；所述密封仓的外侧设有卡槽，且卡槽呈环状排列，并且卡槽为楔形结构；所述密封仓的内壁顶端设有控制槽，且控制槽的截面为矩形结构；所述密封仓安装在固定件的顶端内部，且密封仓的底部与缓冲件的顶端相接触，并且密封仓的卡槽内部插入安装有卡块；

所述支撑件包括有导向槽，顶件，限位件，所述支撑件为六角形结构，且支撑件的外端设有导向槽；所述导向槽的外端为矩形结构，且导向槽的内端为T形结构，并且导向槽的上下两端设有均匀排列的矩形槽；所述顶件的内端为T形结构，且顶件的外端嵌入安装有三个万向球；所述顶件的内端上下两侧设有两个T形槽，并且顶件的内端嵌入安装在导向槽的内部；所述支撑件的内部与旋转架固定连接，且支撑件外端的顶件以及万向球嵌入在控制槽的内部。