[发明专利]一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置

权利要求书

1.一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：包括主体（1），缓冲件（2），密封仓（3），密封板（4），旋转架（5），支撑件（6）和收集件（7）；所述主体（1）为环状结构，且主体（1）的外侧为倾斜状结构；所述缓冲件（2）为橡胶材质，且缓冲件（2）安装在固定件（102）的内部；所述密封板（4）通过转轴安装在密封仓（3）的开口内部，且密封板（4）的限位孔（402）内部插入安装有插杆（303）的底部；所述旋转架（5）为片架本体，且旋转架（5）安装在密封仓（3）的内部，并且旋转架（5）的轴杆与电机的传动轴相连接；所述收集件（7）安装在旋转架（5）的底部外侧，且收集件（7）的挡块（701）底部与底件（501）的顶端外侧相接触；

所述密封仓（3）包括有卡槽（301），控制槽（302），插杆（303），所述密封仓（3）为反应室本体，且密封仓（3）的底部安装有电机以及真空泵，并且密封仓（3）的前端设有开口；所述密封仓（3）的外侧设有卡槽（301），且卡槽（301）呈环状排列，并且卡槽（301）为楔形结构；所述密封仓（3）的内壁顶端设有控制槽（302），且控制槽（302）的截面为矩形结构；所述密封仓（3）安装在固定件（102）的顶端内部，且密封仓（3）的底部与缓冲件（2）的顶端相接触，并且密封仓（3）的卡槽（301）内部插入安装有卡块（103）；

所述支撑件（6）包括有导向槽（601），顶件（602），限位件（603），所述支撑件（6）为六角形结构，且支撑件（6）的外端设有导向槽（601）；所述导向槽（601）的外端为矩形结构，且导向槽（601）的内端为T形结构，并且导向槽（601）的上下两端设有均匀排列的矩形槽；所述顶件（602）的内端为T形结构，且顶件（602）的外端嵌入安装有三个万向球；所述顶件（602）的内端上下两侧设有两个T形槽，并且顶件（602）的内端嵌入安装在导向槽（601）的内部；所述支撑件（6）的内部与旋转架（5）固定连接，且支撑件（6）外端的顶件（602）以及万向球嵌入在控制槽（302）的内部。

2.如权利要求1所述传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：所述主体（1）包括有支撑杆（101），固定件（102），卡块（103），所述主体（1）的顶端设有三个支撑杆（101），且支撑杆（101）为圆柱形结构；所述支撑杆（101）的顶端设有固定件（102），且固定件（102）为环状结构，并且固定件（102）的顶端设有环状排列的固定板；所述卡块（103）为楔形结构，且卡块（103）设在固定板的顶端内侧。

3.如权利要求1所述传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：所述缓冲件（2）包括有内槽（201），内杆（202），所述缓冲件（2）为环状结构，且缓冲件（2）的外侧为齿轮状结构；所述缓冲件（2）的内部设有内槽（201），且内槽（201）为圆形结构，并且内槽（201）的外侧设有环状排列的圆孔；所述内槽（201）的内侧设有圆柱形结构的内杆（202），且内杆（202）为橡胶材质，并且内杆（202）呈环状排列。

4.如权利要求1所述传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：所述密封仓（3）还包括有插杆（303），所述插杆（303）为两端凸起的圆柱形结构，且插杆（303）的底部插入安装在密封仓（3）的开口侧边顶端。

5.如权利要求1所述传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：所述密封板（4）包括有密封条（401），限位孔（402），所述密封板（4）为弧形板状结构，且密封板（4）的上下两端以及右侧设有密封条（401），并且密封条（401）为橡胶材质；所述密封板（4）的顶端右侧设有均匀排列的限位孔（402），且限位孔（402）为圆柱形结构。

6.如权利要求1所述传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其特征在于：所述旋转架（5）包括有底件（501），移动轮（502），所述旋转架（5）的内部设有轴杆，且旋转架（5）的底部设有底件（501）；所述底件（501）为喇叭状结构，且底件（501）的底部通过转轴嵌入安装有移动轮（502），且移动轮（502）为环状排列。