[发明专利]湿度调整过滤器以及磁记录再现装置有效
| 申请号: | 202110021869.4 | 申请日: | 2021-01-08 |
| 公开(公告)号: | CN113963727B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
| 发明(设计)人: | 水谷晶代 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | G11B33/14 | 分类号: | G11B33/14;B01D53/04;B01D53/22 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 万利军;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 湿度 调整 过滤器 以及 记录 再现 装置 | ||
实施方式提供抑制磁记录再现装置内的湿度上升的湿度调整过滤器以及具备该湿度调整过滤器的磁记录再现装置。实施方式涉及的湿度调整过滤器用于包括框体的磁记录再现装置,能够配置在将所述框体的内部与外部气体连结的呼吸孔的所述框体的内部侧,所述框体容纳磁记录介质,所述湿度调整过滤器从呼吸孔侧依次包括疏水性覆膜、第1吸附层以及第2吸附层,所述第1吸附层由在通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线中具有III型的性质的多孔质体形成,所述第2吸附层由具有I型的性质的多孔质体形成。
本申请享受以日本特许申请2020-124372号(申请日:2020年7月21日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含基础申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及湿度调整过滤器以及磁记录再现装置。
背景技术
以往,由于从安装于顶盖的密封垫(gasket)、呼吸孔侵入水分,磁记录再现装置内的湿度会追随外部的湿度地逐渐上升。当磁记录再现装置内的湿度一旦变高时,大多会在呼吸孔设置有扩散流路,成为从内部除去湿度的速度非常慢的构造。在磁记录再现装置内部为高湿度状态、存在了温度的变动的情况下,有可能引起结露。通常在呼吸孔使用具备有调湿特性的活性炭等的呼吸过滤器,在磁记录再现装置内成为了高湿的情况下,吸收多余的水分,但没有积极地排出磁记录再现装置内部的湿度的功能,在进一步超出了吸水极限的情况下,有可能引起结露。
发明内容
本发明的实施方式提供:抑制磁记录再现装置内的湿度上升的湿度调整过滤器以及具备该湿度调整过滤器的磁记录再现装置。
根据实施方式,提供一种湿度调整过滤器,用于包括框体的磁记录再现装置,能够配置在将所述框体的内部与外部气体连结的呼吸孔的所述框体的内部侧,所述框体容纳磁记录介质,所述湿度调整过滤器包括设置在所述呼吸孔侧的疏水性覆膜、第1吸附层以及第2吸附层,所述第1吸附层由在通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线中具有III型的性质的多孔质体形成,所述第2吸附层由在通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线中具有I型的性质的多孔质体形成。
附图说明
图1是表示实施方式涉及的湿度调整过滤器的结构的剖视图。
图2是表示通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线的图表(graph)。
图3是表示在实施方式中使用的多孔质体的吸附等温线的图表。
图4是表示图1的变形例的图。
图5是第2实施方式涉及的磁记录再现装置的分解立体图。
具体实施方式
实施方式涉及的湿度调整过滤器用于包括框体的磁记录再现装置,能够配置在将框体的内部与外部气体连结的呼吸孔的框体的内部侧,框体容纳磁记录介质,湿度调整过滤器包括第1吸附层、疏水性覆膜和第2吸附层,第1吸附层由在通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线中具有III型的性质的多孔质体形成,疏水性覆膜施加于第1吸附层的呼吸孔侧的表面,第2吸附层设置在比第1吸附层靠框体的内部侧,由在通过IUPAC分类而得到的典型的吸附等温线中具有I型的性质的多孔质体形成。
以下,参照附图对实施方式进行说明。
此外,公开不过是一个例子,对于本领域技术人员而言能够保持发明的宗旨的适宜变更且容易想到的技术方案,当然包含于本发明的范围。另外,附图为了使说明更加明确,与实际的形态相比,有时以示意的方式表示各部的宽度、厚度、形状等,但不过是一个例子,并不限定本发明的解释。另外,在本申请说明书和各图中,有时对与关于前面的附图已经描述过的要素同样的要素标记同一标号,适当省略详细的说明。
图1是表示第1实施方式涉及的湿度调整过滤器的结构的剖视图。
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