[发明专利]经图案化的液晶显示元件的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080088920.7 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN114846397A 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 三宅一世;野田尚宏 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C08F20/10;C08F22/40;C08F24/00;C08F283/04;C08G73/10
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 龚敏;王刚
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图案 液晶显示 元件 制造 方法
【说明书】:

本发明提供一种在同一元件内具备2个或3个不同取向区域(面内(单轴)取向区域、面外取向区域、以及倾斜取向区域)的液晶显示元件的制造方法,其为简便且低廉的方法。液晶显示元件的制造方法包括:工序(A):在基板上形成利用光的照射而能够产生自由基的自由基产生膜的工序;以及工序(B):使含有液晶和自由基聚合性化合物的液晶组合物接触所述自由基产生膜,一边保持该状态,一边对所述液晶组合物照射足以使所述自由基聚合性化合物进行聚合反应的在240~400nm具有峰值的光,所述自由基聚合性化合物通过聚合,而具有使所述液晶垂直地取向的功能,进一步地,包含下述要件(Z1)以及(Z2)中的至少一个要件,并且制造面内取向区域、面外取向区域、以及倾斜取向区域中的至少2个区域经图案化的液晶显示元件。要件(Z1):在所述工序(A)与所述工序(B)之间还具有对所述工序(A)中获得的所述自由基产生膜照射在240~400nm具有峰值的光,而使所述自由基产生膜的自由基产生能力失活的工序(C)。要件(Z2):所述工序(B)的对所述液晶组合物照射在240~400nm具有峰值的光的工序是隔着光掩模进行的。

技术领域

本发明涉及利用低廉且不包括复杂工序的方法来制造面内取向区域、面外取向区域、以及倾斜取向区域中的至少2个区域经图案化的液晶显示元件的液晶显示元件的制造方法。

背景技术

近年,移动电话、计算机以及电视的显示器等中广泛使用液晶显示元件。液晶显示元件具有薄型、轻量、低耗电量等特性,今后期待在VR(Virtual Reality,虚拟现实)或超高精细的显示器等进一步内容的应用。液晶显示器的显示方式提出了TN(Twisted Nematic,扭曲向列)、IPS(In-Plane Switching,平面内开关)、VA(Vertical Alignment,垂直取向)等各种显示模式的方案,但全部的模式使用将液晶诱导成所期望的取向状态的膜(液晶取向膜)。

特别是在平板PC或智能手机、智能TV等具有触控面板的制品中,优选即使触摸,显示也不易紊乱的IPS模式,近年,在对比度提高或视场角特性的提高方面,逐渐采用使用FFS(Fringe Field Switching,边缘场开关)的液晶显示元件、使用光取向的使用非接触技术的技术。

但是,FFS存在如下课题:相较于IPS,基板的制造成本高,会发生称为Vcom偏移的FFS模式特有的显示不良。另外,关于光取向,相较于摩擦法,具有能够增大可制造的元件的大小的优点或可大幅改善显示特性的优点,但可举出光取向的原理上的课题(若为分解型,则是来自分解物的显示不良,若为异构化型,则是因取向力不足所致的残影等)。为了解决这些课题,目前液晶显示元件制造商或液晶取向膜制造商正在进行各种研究。

另一方面,近年来,提出了利用零面锚定(也称为弱锚定)的IPS模式的方案,并且报道了通过使用该方法,相较于以往的IPS模式,使得对比度提高或大幅的低电压驱动成为可能(参照专利文献1)。

具体而言,是在单侧的基板使用具有强锚定能量的液晶取向膜,而在另一个具备产生横向电场的电极的基板侧施加使其失去一切液晶的取向约束力的处理,并使用这些来制作IPS模式的液晶显示元件的方法。

近年,使用浓厚聚合物刷等制作出零面状态,并提出了零面锚定IPS模式(也成为弱锚定IPS模式)的技术方案(参照参考文献2)。通过该技术,实现对比度比的大幅提高或驱动电压的大幅降低。

另一方面,存在响应速度,特别是电压OFF时的响应速度显着降低的课题。这是由于驱动电压变低,因此相较于通常的驱动方式,以较弱的电场使其响应所致的影响,并且由于取向膜的锚定力极小,因此液晶的复原会耗费时间。

作为解决其的方法,提出了仅在像素电极上进行零锚定的方法的方案(例如,参照专利文献3)。由此,报道了能够兼顾亮度的提高与响应速度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4053530号公报

专利文献2:日本特开2013-231757号公报

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社,未经日产化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080088920.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top