[发明专利]自动化库发生器

权利要求书

1.一种校准设备，包括：

示教挂件的阵列；

平移致动器，其被配置成将所述示教挂件的阵列平移到x和y位置的集合，其中，所述x和y位置是在基本上平行于仪器台面的底板的平面内测量的；

多个高度致动器，其被配置成在基本上垂直于所述平面的方向上移动所述示教挂件的每一个；并且

其中，所述示教挂件中的一个或更多个示教挂件由于所述示教挂件的阵列的位置而接触在所述仪器台面上方的示教对象的阵列中的一个或更多个示教对象。

2.根据权利要求1所述的校准设备，其中，所述示教挂件的阵列耦合到液体处理吊架的多通道的移液头。

3.根据权利要求2所述的校准设备，其中，所述设备被配置成基于所述示教挂件中的所述一个或更多个示教挂件接触所述示教对象中的所述一个或更多个示教对象的结果来校准所述液体处理吊架。

4.根据权利要求1所述的校准设备，其中，所述示教挂件中的示教挂件包括耦合到液体处理吊架的移液头的部分。

5.根据权利要求1所述的校准设备，其中，所述示教挂件中的示教挂件逐渐变细至吸头，以用于接触和检测示教对象。

6.根据权利要求1所述的校准设备，还包括被配置成响应于示教挂件基本上与表面接触而检测所述表面的电路。

7.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述电路被配置成响应于所述示教挂件基本上与所述表面接触，基于电容和电导率的组合的测量来检测所述表面。

8.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述电路被配置成响应于所述示教挂件基本上与所述表面接触，基于压力和电容的组合的测量来检测所述表面。

9.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述电路被配置成响应于所述示教挂件基本上与所述表面接触，基于与关联于所述示教挂件的高度致动器相关联的扭矩的测量来检测所述表面。

10.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述电路被配置成响应于所述示教挂件基本上与所述表面接触，基于驱动与所述示教挂件相关联的高度致动器的电流的测量来检测所述表面。

11.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述电路还被配置成控制与所述表面基本上接触的示教挂件相关联的高度致动器，其中，所述高度致动器由所述电路控制以响应于检测到所述表面而阻止所述示教挂件进一步沿基本上垂直于所述平面的方向移动。

12.根据权利要求6所述的校准设备，其中，所述x和y位置的集合包括对应于所述示教对象的阵列的基准位置的集合，或者相对于对应于所述示教对象的阵列的所述基准位置的集合具有预定偏移的x和y位置的集合，其中所述示教对象的阵列与放置在所述仪器台面上或所述仪器台面上方的台面模块相关联。

13.根据权利要求12所述的校准设备，其中，所述多个高度致动器被配置成响应于所述示教挂件的阵列被平移到所述x和y位置的集合，在基本上垂直于所述平面的方向上移动所述示教挂件的每一个。

14.根据权利要求13所述的校准设备，其中，所述设备还被配置成响应于检测到所述表面，确定沿基本上垂直于所述平面的方向测量的所述示教挂件的位置。

15.根据权利要求14所述的校准设备，其中，所述设备还被配置成基于沿着基本上垂直于所述平面的方向测量的所确定的位置来确定是否检测到示教对象。

16.根据权利要求15所述的校准设备，其中，所述示教对象包括立在底板表面上的示教立柱。