[发明专利]识别集成电路芯片中观察到的异常的原因在审

专利信息
申请号: 202080083699.6 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN114761928A 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: M·哈伦达;G·帕内萨尔 申请(专利权)人: 西门子工业软件有限公司
主分类号: G06F11/00 分类号: G06F11/00;G06F17/18
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 李兴斌;闫昊
地址: 美国得*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 识别 集成电路 芯片 观察到 异常 原因
【权利要求书】:

1.一种识别从一个集成电路(IC)芯片上的系统电路装置测得的异常特征的原因的方法,所述IC芯片包括所述系统电路装置和监控电路装置,所述监控电路装置用于通过测得一系列窗口中的每个窗口中的所述系统电路装置的特征来监控所述系统电路装置,所述方法包括:

(i)从包括所述异常特征的异常窗口之前的一个窗口集中,识别一个候选窗口集,以便在所述候选窗口集中搜索所述异常特征的原因;

(ii)针对所述系统电路装置的所测得的特征中的每个测得的特征:

(a)针对所述候选窗口集,计算该测得的特征的第一特征概率分布;

(b)针对不在所述候选窗口集中的窗口,计算该测得的特征的第二特征概率分布;

(c)比较所述第一特征概率分布和所述第二特征概率分布;以及

(d)如果所述第一特征概率分布和所述第二特征概率分布相差超过阈值,则识别出在所述候选窗口集的时间范围内的该测得的特征作为所述异常特征的原因;

(iii)针对来自所述异常窗口之前的所述窗口集的多个其他候选窗口集,迭代步骤(i)和(ii);以及

(iv)输出一个信号,所述信号指示步骤(ii)(d)中被识别为所述异常特征的原因的那些测得的特征。

2.根据权利要求1所述的方法,其中:

步骤(ii)(c)包括,确定所述第一特征概率分布与所述第二特征概率分布之间的差异度量;以及

步骤(ii)(d)包括,如果该差异度量大于所述阈值,则识别出所述候选窗口集的时间范围内的所测得的特征是所述异常特征的原因。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述差异度量是由所述迭代的第一特征概率分布与第二特征概率分布之间的随时间的差异的百分位数来缩放的。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述异常窗口之前的所述窗口集被(i)所述异常窗口和(ii)一个远端早期窗口界定。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,步骤(ii)(b)包括,针对在所述候选窗口集与所述异常窗口之间的一个窗口集,计算该测得的特征的所述第二特征概率分布。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述候选窗口集包括少于10个窗口。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述候选窗口集仅包括一个窗口。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述第一特征概率分布和所述第二特征概率分布是在步骤(ii)(a)和(ii)(b)中通过对已识别的所述窗口的所测得的特征拟合高斯模型来计算的。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括,识别受所述异常特征影响的测得的特征,受影响的所述测得的特征位于所述异常窗口之后的一个窗口中,所述方法包括:

(v)从所述异常窗口之后的一个窗口集中,识别一个后续候选窗口集,以便在所述后续候选窗口集中搜索所述异常特征的影响;

(vi)针对所述系统电路装置的所测得的特征中的每个测得的特征:

(a)针对所述后续候选窗口集,计算该测得的特征的第三特征概率分布;

(b)针对不在所述后续候选窗口集中的后续窗口,计算该测得的特征的第四特征概率分布;

(c)比较所述第三特征概率分布和所述第四特征概率分布;以及

(d)如果所述第三特征概率分布和所述第四特征概率分布相差超过其他阈值,则识别出在所述后续候选窗口集的时间范围内的该测得的特征作为受到所述异常特征影响;以及

(vii)针对所述异常窗口之后的所述窗口集的多个其他后续候选窗口集,迭代步骤(v)和(vi);以及

(viii)输出一个信号,所述信号指示步骤(vi)(d)中被识别为受所述异常特征影响的那些测得的特征。

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