[发明专利]用于多射束SEM工具的自参考健康监测系统在审
| 申请号: | 202080060496.5 | 申请日: | 2020-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN114424316A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
| 发明(设计)人: | 方伟;浦凌凌 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;H01J37/28;H01J37/304 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 赵林琳 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 多射束 sem 工具 参考 健康 监测 系统 | ||
公开了用于图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法,可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录((502),(506)),每个记录与射束相关联。该方法还可以包括基于使用记录的一部分(502)所确定的基准值(504),来确定射束的异常是否发生。该方法还可以包括响应于异常已经发生的确定来提供异常指示。
本申请要求于2019年8月28日提交的美国申请62/893,139的优先权,并且其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本文的描述涉及带电粒子射束系统领域,并且更具体地涉及用于多射束扫描电子显微镜(SEM)系统的健康监测。
背景技术
在集成电路(IC)的制造过程中,检查未完成或已完成的电路组件以确保它们是根据设计制造的并且没有缺陷。可以采用利用光学显微镜或带电粒子(例如电子)射束显微镜(诸如扫描电子显微镜(SEM))的检查系统。SEM将低能电子(例如,1keV)递送到表面,并使用检测器记录离开表面的二次或背散射电子。通过记录针对表面上的不同激发位置的电子,可以创建具有纳米级空间分辨率的图像。
SEM可以是单射束系统或多射束系统。单射束SEM使用单个电子射束扫描表面,而多射束SEM使用多个电子射束同时扫描表面。与单射束系统相比,多射束系统可以达成更高的成像吞吐量。但是,多射束系统也具有比较复杂的结构,因此与单射束系统相比,它缺乏一定的结构灵活性。此外,由于其更高的复杂性,与单射束SEM相比,多射束SEM更容易出现操作错误和问题。
发明内容
本公开的实施例提供用于图像增强的系统和方法。在一些实施例中,用于监测多射束系统的性能的方法可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联。该方法还可以包括基于使用记录的一部分所确定的基准值,来确定射束的异常是否发生。该方法还可以包括响应于异常已经发生的确定而提供异常指示。
在一些实施例中,公开了一种用于监测多射束系统的性能的系统。该系统可以包括具有用以执行指令集的电路装置的控制器。控制器可以执行指令集以使系统接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联。控制器还可以执行该指令集以使系统基于使用记录的一部分所确定的基准值,来确定射束的异常是否发生。控制器还可以执行指令集以使系统响应于确定异常已经发生来提供异常指示。
在一些实施例中,公开了一种非瞬态计算机可读介质。非瞬态计算机可读介质可以存储可由装置的至少一个处理器执行指令集、以使装置执行用于监测多射束系统的性能的方法。该方法可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联。该方法还可以包括基于使用记录的一部分所确定的基准值来确定射束的异常是否发生。该方法还可以包括响应于异常已经发生的确定而提供异常指示。
在一些实施例中,监测多射束系统的健康的方法可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录。该方法还可以包括比较记录以确定射束中的射束是否表现出异常。该方法还可以包括当射束表现出异常时触发通知。
在一些实施例中,公开了一种用于监测多射束系统的健康的装置。该装置可以包括具有执行指令集的电路装置的控制器。控制器可以执行指令集以使系统接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录。控制器还可以执行指令集以使系统比较记录以确定射束中的射束是否表现出异常。控制器还可以执行该指令集以使系统在射束表现出异常时触发通知。
在一些实施例中,公开了一种非瞬态计算机可读介质。非瞬态计算机可读介质可以存储可由装置的至少一个处理器执行指令集以使装置执行监测多射束系统的健康的方法。该方法可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录。该方法还可以包括比较记录以确定射束中的射束是否表现出异常。该方法还可以包括当射束表现出异常时触发通知。
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