[发明专利]具有非磁性调节器和辅助调节器的成像系统在审
申请号: | 202080045011.5 | 申请日: | 2020-06-17 |
公开(公告)号: | CN114008543A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 森本清文;竹本和彦 | 申请(专利权)人: | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
主分类号: | G03G15/09 | 分类号: | G03G15/09;G03G21/10 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;宋志强 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 磁性 调节器 辅助 成像 系统 | ||
1.一种成像系统,包括:
搅拌装置,用于搅拌显影剂;
可旋转的显影剂载体,用于承载由所述搅拌装置所搅拌的所述显影剂;
非磁性调节器,用于调节由所述显影剂载体所承载的所述显影剂的厚度;
辅助调节器,用于进一步调节由所述显影剂载体所承载的所述显影剂的所述厚度;
过量显影剂输送路径,用于输送来自所述显影剂载体的过量显影剂,所述过量显影剂输送路径从所述显影剂载体经由形成在所述非磁性调节器和所述辅助调节器之间的间隙延伸;
调色剂供应路径,用于将调色剂供应至所述搅拌装置;以及
所述调色剂供应路径和所述过量显影剂输送路径合并的合并区域,所述合并区域至少部分地基于从所述过量显影剂输送路径接收的所述过量显影剂的量,来控制所述调色剂从所述调色剂供应路径到所述搅拌装置的供应。
2.根据权利要求1所述的成像系统,其中,
所述辅助调节器在所述显影剂围绕所述显影剂载体的输送方向上设置在所述非磁性调节器的下游侧。
3.根据权利要求1所述的成像系统,其中,
所述辅助调节器是磁性的。
4.根据权利要求3所述的成像系统,其中,
所述辅助调节器包括与磁性构件结合的非磁性构件。
5.根据权利要求1所述的成像系统,其中,
所述非磁性调节器与所述显影剂载体间隔开第一间隙,并且
所述辅助调节器与所述显影剂载体间隔开小于所述第一间隙的第二间隙。
6.根据权利要求5所述的成像系统,其中,
所述第二间隙约为0.6毫米或更小。
7.根据权利要求1所述的成像系统,其中,
所述调色剂供应路径提供有调色剂滴落口,所述调色剂滴落口位于所述合并区域和所述搅拌装置之间并且位于所述搅拌装置上方。
8.根据权利要求7所述的成像系统,其中,
调色剂滴落口具有小于所述过量显影剂输送路径的横截面积的开口面积。
9.根据权利要求7所述的成像系统,其中,
当所述显影剂的调色剂浓度为设定范围或更大时,所述调色剂滴落口的开口面积的大小被设置为使得从所述过量显影剂输送路径输送的所述过量显影剂的量超过从所述调色剂滴落口滴落的所述显影剂的量。
10.根据权利要求7所述的成像系统,其中,
所述搅拌装置在轴向方向上延伸,并且
所述调色剂滴落口设置在所述搅拌装置的在所述轴向方向上的端部上方。
11.根据权利要求7所述的成像系统,其中,
所述过量显影剂输送路径提供有溢流口,所述溢流口沿所述过量显影剂输送路径设置在所述显影剂载体和所述合并区域之间。
12.根据权利要求1所述的成像系统,其中,
所述显影剂载体具有用于承载所述显影剂的多个磁极,以及
所述合并区域与所述多个磁极中的至少一个邻近,以在所述合并区域处吸附所述过量显影剂。
13.根据权利要求12所述的成像系统,其中,
所述显影剂载体包括形成所述显影剂载体的表面层的可旋转显影套筒以及设置在所述显影套筒内部的磁辊,其中,所述磁辊包括布置在所述显影剂载体的圆周方向上的所述多个磁极,所述显影剂载体的所述磁极吸附所述合并区域中的所述显影剂中的至少一部分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普发展公司,有限责任合伙企业,未经惠普发展公司,有限责任合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080045011.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。