[发明专利]具有氢阻障层的石英光纤及其生产方法

权利要求书

1.一种制造石英玻璃光纤的方法，其中，所述方法包括以下步骤：

a)通过改进的化学气相沉积(MCVD)在石英玻璃基管中产生石英玻璃初级预制件；

b)将所述石英玻璃初级预制件插入玻璃套管中，

c)将产生缺陷的紫外线辐照照射到所述玻璃套管的所述横截面区域，同时在所述包套过程中将所述石英玻璃初级预制件与所述玻璃套管组合，以在所述纤芯上形成对次级预制件的包覆层；及

d)从所述次级预制件拉出石英玻璃光纤。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述产生缺陷的紫外线辐照在所述石英光纤的所述包覆层中产生E'和NBOHC缺陷。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述产生缺陷的紫外线辐照被照射到所述玻璃套管中。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述玻璃套管由OH浓度≤0.2ppm、氯含量为800-2000ppm和/或折射率在+0.35至+0.5×10^-3的石英玻璃构成。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，所述石英玻璃初级预制件在所述纤芯上具有氟掺杂径向层。

6.通过权利要求1-5中任一项所述的方法生产或可生产的石英玻璃光纤。

7.一种石英玻璃光纤，包括：

a)石英玻璃的纤芯，

b)所述纤芯上的氟掺杂径向层，

c)石英玻璃的包覆层，

其中，所述石英玻璃光纤特征在于

d1)所述包覆层具有E'和NBOHC缺陷，或

d2)所述包覆层具有Si-OH和Si-H化合物。

8.如权利要求7所述的石英玻璃光纤，其中，所述包覆层为在所述纤芯上具有OH浓度≤0.2ppm、氯含量800-2000ppm、和/或折射率+0.35～+0.5×10^-3的石英玻璃，并且其中，所述包覆层优选地具有比所述纤芯更高的E'和NBOHC缺陷密度。

9.如权利要求6或7所述的石英玻璃光纤，其中，所述石英玻璃光纤不具有其他掺杂层。

10.如权利要求6-8中任一项所述的石英玻璃光纤，其中，所述石英玻璃光纤不具有气密涂层。