[发明专利]静态增益校准在审
| 申请号: | 202080042412.5 | 申请日: | 2020-04-10 |
| 公开(公告)号: | CN113939229A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
| 发明(设计)人: | P·J·维塔根;E·胡梅尔;F·S·B·范尼亚纳滕;J·A·范鲁伊杰恩;P·G·范德哈尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘兆君 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 静态 增益 校准 | ||
1.一种用于成像的X射线系统(1、10),包括:
组件(4、14),其包括源(2)和探测器(3),所述探测器被布置为远离所述源以探测由所述源发射的、在穿过成像区域之后的辐射,所述组件能够被移动到由所述成像区域周围的至少一条扫描轨迹限定的不同扫描坐标,以当所述组件移动时以动态模式在多个所述扫描坐标处采集X射线投影图像,并且所述组件还能够被移动到预定参考坐标,以当所述组件静止时以静态模式在所述参考坐标处采集X射线投影图像,
至少一个处理单元(5),其被配置为:
接收多个动态增益校准参数作为第一输入(INP1),
获得静态增益校准参数作为第二输入(INP2),
至少基于接收到的第一输入和所获得的第二输入来确定与所述多个动态增益校准参数中的每个相对应的多个经调整的动态增益校准参数(R),
其中,
每个动态增益校准参数是根据在动态增益校准时段期间在所述至少一条扫描轨迹的所述扫描坐标中的一个扫描坐标处以所述动态模式采集的X射线投影图像获得的,
所述静态增益校准参数是根据在静态增益校准时段期间在所述预定参考坐标处以所述静态模式采集的X射线投影图像获得的,并且
所述静态增益校准时段的开始时间比所述动态增益校准时段的开始时间发生的更晚,使得所述静态增益校准时段和所述动态增益校准时段在时间上不交叠。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述至少一个处理单元(5)还被配置为:获得另外的静态增益校准参数作为第三输入(INP3),并且基于接收到的第一输入、所获得的第二输入和所获得的第三输入来确定所述多个经调整的动态增益校准参数(R),所述另外的静态增益校准参数是根据在紧接在所述动态增益校准时段之后的初始静态增益校准时段期间在所述预定参考坐标处以所述静态模式采集的X射线投影图像获得的,所述初始静态增益校准时段的开始时间在所述静态增益校准时段的所述开始时间之前,使得所述初始静态增益校准时段和后续的所述静态增益校准时段在时间上不交叠。
3.根据权利要求1或2所述的系统,其中,所述至少一个处理单元(5)还被配置为在所述静态增益校准时段结束时或在所述静态增益校准时段之后确定所述多个经调整的动态增益校准参数(R)。
4.根据权利要求3所述的系统,其中,所述多个经调整的动态增益参数(R)中的每个和对应的接收到的动态增益参数与所述探测器(3)在所述扫描坐标中的一个扫描坐标处的像素单元相关联,并且根据以下函数关系来确定:R=INP1*INP2/INP3,接收到的第二所述输入(INP2)和所述第三输入(INP3)与所述探测器(3)在所述预定参考坐标处的相同像素单元相关联。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的系统,其中,所述至少一个处理单元(5)还被配置为在多个时间步中的每个处重复地获得静态增益校准参数作为所述第二输入(INP2)并且在所述多个时间步中的每个处重复地确定所述多个经调整的动态增益参数(R),所述静态增益校准参数是根据在包括所述时间步的静态增益校准时段期间在所述预定参考坐标处以所述静态模式采集的X射线投影图像获得的。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的系统,其中,所述至少一个处理单元(5)还被配置为接收X射线投影图像并从其提取静态和动态增益校准参数和/或使用所述多个经调整的动态增益参数(R)来对采集的X射线投影图像数据执行图像均匀性校正。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的系统,其中,所述至少一个处理单元(5)还被配置为通过访问存储单元(6)上的数据记录来接收和/或提供输入。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的系统,其中,基于以旋转模式收集的图像投影数据来确定在第一时刻获得的旋转增益参数。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的系统,其中,所述组件(4)包括可旋转C型臂,所述可旋转C型臂具有面对彼此的两个相对的端部部分,所述源(2)和所述探测器(3)分别被耦合到所述端部部分中的一个。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司,未经皇家飞利浦有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080042412.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:利用随机噪声符号和模式识别的认证
- 下一篇:pH调节水制造装置





