[发明专利]控制等离子体反应器的排放气体压力实现等离子体稳定性

权利要求书

1.一种等离子体发生系统，包括：

波导件，用于传输通过所述波导件的微波能量；

等离子体腔，耦合到所述波导件，并被配置为使用所述微波能量在所述等离子体腔的内部产生等离子体；

气流入口，用于将输入气体导入到所述等离子体腔中；

排放气体管道，用于输送来自所述等离子体腔的排放气体，其中所述等离子体将所述输入气体转化为所述排放气体；

压力控制装置，安装在所述排放气体管道中，并被配置为控制所述排放气体管道内的所述排放气体的压力。

2.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是盘，所述盘具有位于所述盘内的至少一个孔口。

3.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是具备至少一个孔的球体，所述排放气体从所述孔通过。

4.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置包括网状织物。

5.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是具有一个或多个边缘切口的盘。

6.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是管，且所述管的直径沿所述管的下游方向变化。

7.根据权利要求1所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置包括反馈控制单元，并包括：

传感器，用于测量所述排放气体管道中的所述排放气体的压力；

阀，用于调节所述排放气体管道中的所述排放气体的压力；和

控制单元，用于接收与所述压力相关联的信号并响应于所述信号控制所述阀。

8.一种等离子体发生系统，包括：

波导件，用于传输通过所述波导件的微波能量；

等离子体腔，耦合到所述波导件，并被配置为使用所述微波能量在所述等离子体腔的内部产生等离子体；

气流入口，用于将输入气体导入到所述等离子体腔；

排放气体管道，用于输送来自所述等离子体腔的排放气体，其中，所述等离子体将所述输入气体转化为所述排放气体；和

容器，附接到所述排放气体管道的侧表面并与所述排放气体管道流体连通。

9.一种等离子体发生系统，包括：

多个等离子体反应器，每个所述多个等离子体反应器包括：

波导件，用于传输通过所述波导件的微波能量；

等离子体腔，耦合到所述波导件，并被配置为使用所述微波能量在所述等离子体腔内产生等离子体；

气流入口，用于将气体导入到所述等离子体腔；

排放气体管道，用于输送来自所述等离子体腔的排放气体，其中，所述等离子体将所述气体转化为所述排放气体；和

压力控制装置，安装在所述排放气体管道中，并被配置为控制所述排放气体管道内的所述排放气体的压力；和

歧管，耦合到所述多个等离子体反应器的所述排放气体管道，并被配置为接收来自所述排放气体管道的所述排放气体。

10.根据权利要求9所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是盘，所述盘具有在所述盘内部形成的至少一个孔口。

11.根据权利要求9所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是具有至少一个孔的球体，所述排放气体从所述孔通过。

12.根据权利要求9所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置包括网状织物。

13.根据权利要求9所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是具有一个或多个边缘切口的盘。

14.根据权利要求9所述的等离子体发生系统，其中，所述压力控制装置是管，并且所述管的直径沿着所述管的下游方向变化。