[发明专利]光电器件、光子检测器和生成光电器件的方法在审
申请号: | 202080027304.0 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN113892190A | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 乌尔斯·丹尼尔;安德里亚斯·菲齐 | 申请(专利权)人: | AMS国际有限公司 |
主分类号: | H01L31/02 | 分类号: | H01L31/02;H01L27/146;H01L31/105 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 李慧然;刘继富 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 器件 光子 检测器 生成 方法 | ||
1.一种光电器件,包括:
-第一半导体层(1),其具有第一导电性,且具有正面(11)和背面(12),
-第二半导体层(2),其具有第二导电性,且设置在所述第一半导体层(1)的正面(11)上,其还包括第一半导体区域(21)和第二半导体区域(22),所述第一半导体区域和第二半导体区域在所述第二半导体层(2)中形成光电二极管(23),以及
-信号路径(5),其将所述光电二极管(23)电连接到固定电势。
2.一种光电器件,包括单个半导体裸片,所述半导体裸片还包括第一半导体层和第二半导体层(1,2)和信号路径(5),其中:
-所述第一半导体层(1)具有第一导电性,且具有正面(11)和背面(12),
-所述第二半导体层(2)具有第二导电性,且设置在所述第一半导体层(1)的正面(11)上,其还包括第一半导体区域(21)和第二半导体区域(22),所述第一半导体区域和第二半导体区域在所述第二半导体层(2)中形成光电二极管(23),并且
-所述信号路径(5)将所述光电二极管(23)电连接到固定电势。
3.根据权利要求1或2所述的光电器件,其中,所述信号路径(5)将所述光电二极管(23)与所述第一半导体层(1)的背面(12)电连接。
4.根据权利要求1至3之一所述的光电器件,其中,第一接触区域(31)设置在所述第一半导体层(1)的背面(12)上,且耦合到所述信号路径(5)。
5.根据权利要求4所述的光电器件,其中
-重分布层(3)设置在所述背面(12)上,
-所述重分布层(3)还包括氧化物层和金属化层,并且
-所述重分布层(3)包括所述第一接触区域(31),以使得所述信号路径(5)将所述光电二极管(23)与所述第一接触区域(31)电连接。
6.根据权利要求1至5之一所述的光电器件,其中,所述信号路径(5)包括虚设的衬底通孔。
7.根据权利要求1至6之一所述的光电器件,其中:
-所述第二半导体层(2)包括一个或更多个功能电路(24、25),
-一个或更多个硅通孔(14)设置在第一半导体层和第二半导体层(1,2)中,并且
-一个或更多个凸块(35)设置在所述背面(12)上,以经由所述一个或更多个硅通孔(14)电连接所述一个或更多个功能电路(24、25)。
8.根据权利要求1至7之一所述的光电器件,其中
-后端层(4)设置在所述第二半导体层(2)上,并且
-涂覆层(41)与所述后端层(4)毗邻设置,以使得所述光电二极管(23)至少部分地被所述涂覆层(41)包围。
9.根据权利要求1至8之一所述的光电器件,其中
-所述第二半导体层(2)是外延层,
-所述外延层构造成在所述正面(11)上提供至少第二接触区域(13),和/或
-后端层(4)设置在所述外延层上,且包括至少耦合到所述第二接触(13)的金属化部。
10.根据权利要求1至9之一所述的光电器件,其中:
-所述第一半导体区域(21)具有n+型导电性,所述第二半导体区域(22)具有p+型导电性,或是相反的,并且
-所述第一半导体区域(21)和所述第二半导体区域(22)间隔开,以在所述第二半导体层(2)中形成PIN光电二极管(23)。
11.根据权利要求1至10之一所述的光电器件,其中,所述第一半导体层(1)是高掺杂的,且具有p++型或n++型导电性。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的