[发明专利]表面处理金属材料有效
申请号: | 202080021915.4 | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN113631743B | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 庄司浩雅;石塚清和;德田公平;齐藤完;后藤靖人;德田郁美 | 申请(专利权)人: | 日本制铁株式会社 |
主分类号: | C22C18/00 | 分类号: | C22C18/00;C22C18/04;C23C22/36;C23C22/42;C23C22/44 |
代理公司: | 北京天达共和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11586 | 代理人: | 张嵩;薛仑 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 金属材料 | ||
1.一种表面处理金属材料,具有:
金属板,
镀层,其被形成在所述金属板上,并含有铝、镁及锌,以及
复合被膜,其被形成在所述镀层的表面上,包含有机硅化合物、锆化合物及/或钛化合物、磷酸化合物、氟化合物及钒化合物;
用显微荧光X射线以的光斑尺寸对所述复合被膜的表面进行分析时,V含量与Zn含量的质量比即V/Zn的最大值为0.010~0.100。
2.如权利要求1所述的表面处理金属材料,其中,
在所述复合被膜中,用所述显微荧光X射线以的光斑尺寸进行分析时,所述V/Zn为0.010~0.100的区域相对于整个测定范围的面积率为1%~50%。
3.如权利要求1所述的表面处理金属材料,其中,
在所述复合被膜中,用所述显微荧光X射线以的光斑尺寸进行分析时,V的固体成分质量与Si的固体成分质量之比即V/Si的最大值为1.0~100。
4.如权利要求2所述的表面处理金属材料,其中,
在所述复合被膜中,用所述显微荧光X射线以的光斑尺寸进行分析时,V的固体成分质量与Si的固体成分质量之比即V/Si的最大值为1.0~100。
5.如权利要求1~4的任意一项所述的表面处理金属材料,其中,
在所述复合被膜中,用所述显微荧光X射线以的光斑尺寸进行分析时,Zr及Ti的合计固体成分质量与Si的固体成分质量之比即(Zr+Ti)/Si的平均值为0.06~0.15,P的固体成分质量与Si的固体成分质量之比即P/Si的平均值为0.15~0.25,V/Si的平均值为0.01~0.10。
6.如权利要求1~4的任意一项所述的表面处理金属材料,其中,
所述镀层的化学组成含有:
Al:超过4.0%~小于25.0%,
Mg:超过1.0%~小于12.5%,
Sn:0%~20%,
Bi:0%~小于5.0%,
In:0%~小于2.0%,
Ca:0%~3.0%,
Y:0%~0.5%,
La:0%~小于0.5%,
Ce:0%~小于0.5%,
Si:0%~小于2.5%,
Cr:0%~小于0.25%,
Ti:0%~小于0.25%,
Ni:0%~小于0.25%,
Co:0%~小于0.25%,
V:0%~小于0.25%,
Nb:0%~小于0.25%,
Cu:0%~小于0.25%,
Mn:0%~小于0.25%,
Fe:0%~5.0%,
Sr:0%~小于0.5%,
Sb:0%~小于0.5%,
Pb:0%~小于0.5%,以及
B:0%~小于0.5%,
剩余部分为Zn及杂质。
7.如权利要求5所述的表面处理金属材料,其中,
所述镀层的化学组成含有:
Al:超过4.0%~小于25.0%,
Mg:超过1.0%~小于12.5%,
Sn:0%~20%,
Bi:0%~小于5.0%,
In:0%~小于2.0%,
Ca:0%~3.0%,
Y:0%~0.5%,
La:0%~小于0.5%,
Ce:0%~小于0.5%,
Si:0%~小于2.5%,
Cr:0%~小于0.25%,
Ti:0%~小于0.25%,
Ni:0%~小于0.25%,
Co:0%~小于0.25%,
V:0%~小于0.25%,
Nb:0%~小于0.25%,
Cu:0%~小于0.25%,
Mn:0%~小于0.25%,
Fe:0%~5.0%,
Sr:0%~小于0.5%,
Sb:0%~小于0.5%,
Pb:0%~小于0.5%,以及
B:0%~小于0.5%,
剩余部分为Zn及杂质。
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