[发明专利]用于使用缩窄带宽进行成像的方法和设备

权利要求书

1.一种用于对使用光刻系统将特征成像到衬底上的方法进行优化的方法，所述方法包括：

获得用于所述成像的光束的光谱，其中所述光束包括具有多个不同波长的脉冲；和

缩窄用于所述成像的所述光束的脉冲的所述光谱以改善所述成像的品质指标。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

获得被配置成在所述衬底上产生所述特征的图案形成装置的设计；

获得用于所述成像的光源设计；和

同时迭代地改变所述光束的光谱、所述掩模设计、和所述光源设计以提供优化光谱、优化掩模设计和优化光源设计。

3.根据权利要求1所述的方法，其中每个脉冲的带宽介于50fm与275fm之间。

4.根据权利要求1所述的方法，其中在具有300fm的名义带宽的激光器中产生所述光束，并且其中所述激光器的线缩窄模块被调整以产生50fm至275fm的带宽。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法包括选择所述带宽以产生所述成像过程的品质指标的改善。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述品质指标是对比度。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述品质指标是成像光强对数斜率或归一化成像光强对数斜率。

8.根据权利要求5所述的方法，其中所述品质指标是曝光宽容度。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括至少部分地基于所述脉冲的带宽来优化光源设计和/或掩模设计。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述优化包括同时迭代地改变所述光束的光谱、所述掩模设计、和所述光源设计以提供优化光谱、优化掩模设计、和优化光源设计。

11.根据权利要求1所述的方法，还包括根据所选择的焦深来选择第一波长与第二波长之间的差。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括将所述特征成像到所述衬底上。

13.根据权利要求1所述的方法，还包括：

在单个曝光行程期间，在所述衬底上产生至少第一空间图像和第二空间图像，所述第一空间图像位于所述衬底上的第一平面处且所述第二空间图像位于所述衬底上的第二平面处，所述第一平面与所述第二平面在空间上彼此不同且沿传播方向彼此分离开一间隔距离；和

基于所述第一空间图像中的光与所述衬底的第一部分中的材料之间的相互作用、以及所述第二空间图像中的光与所述衬底的第二部分中的材料之间的相互作用，形成三维半导体部件。

14.一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括其上记录有机器可执行指令的非暂时性计算机可读介质，所述机器可执行指令在被执行时实施如根据权利要求1所述的方法。