[发明专利]辐射系统

权利要求书

1.一种系统，包括：

辐射源，所述辐射源包括：

壳体，所述壳体设置有出射孔；和

辐射产生器，所述辐射产生器能够操作以在所述壳体中产生输出辐射并且引导所述输出辐射的至少一部分穿过所述出射孔；以及

等离子体产生器，所述等离子体产生器能够操作以产生等离子体，所述等离子体至少部分地延伸横穿所述输出辐射的被引导通过所述出射孔的所述至少一部分。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述辐射产生器包括：

靶产生器，所述靶产生器能够操作以在等离子体形成区域处产生包括靶材料的靶，所述等离子体形成区域被布置成接收用于照射所述靶材料的激光辐射，以由此产生发射所述输出辐射的第二等离子体；和

光学元件，所述光学元件被布置成朝向所述出射孔引导所述输出辐射的至少一部分。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中，所述辐射产生器被布置成将所述输出辐射的至少一部分聚焦在中间焦点处，所述中间焦点被设置在所述出射孔处或被设置在所述出射孔附近。

4.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以从氢气形成所述等离子体。

5.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以形成具有大于10¹⁹cm^-3的电子密度的等离子体。

6.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以形成具有大于6.7×10²²cm^-3的电子密度的等离子体。

7.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以形成具有小于6.7×10²⁴cm^-3的电子密度的等离子体。

8.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以在沿所述输出辐射的传播方向具有大于300μm的范围的区域中形成等离子体。

9.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以使用电弧放电来产生所述等离子体。

10.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以引导由所述等离子体产生器产生的所述等离子体至少部分地流动横穿所述出射孔。

11.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器能够操作以引导由所述等离子体产生器产生的所述等离子体至少部分地流动通过所述出射孔并进入所述壳体中。

12.根据任一前述权利要求所述的系统，其中，所述等离子体产生器包括至少一个等离子体产生单元，所述至少一个等离子体产生单元被布置成产生等离子体并引导所述等离子体至少部分地流动横穿所述出射孔。

13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述等离子体产生单元或每个等离子体产生单元包括：

第一电极和第二电极；

电压源，所述电压源能够操作以在所述第一电极与所述第二电极之间施加电压；以及

气流产生器，所述气流产生器能够操作以在所述第一电极与所述第二电极之间且沿至少部分地横穿所述出射孔的方向产生气流。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述第一电极是中空的并且所述第二电极被设置在所述第一电极内。

15.根据权利要求13或权利要求14所述的系统，其中，所述等离子体产生单元或每个等离子体产生单元包括喷嘴。