[发明专利]肽化合物的制造方法在审
| 申请号: | 202080012021.9 | 申请日: | 2020-02-03 |
| 公开(公告)号: | CN113366011A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
| 发明(设计)人: | 半田道玄;安田直彦;长屋昭裕;上坂浩之 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社;肽梦想株式会社 |
| 主分类号: | C07K1/06 | 分类号: | C07K1/06;C07K1/10;C07K1/14 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 牛蔚然 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化合物 制造 方法 | ||
1.肽的制造方法,其包括下述工序(1)及(2),
(1)
使C-保护氨基酸或C-保护肽与式(I)所示的N-保护氨基酸或N-保护肽的C末端缩合的工序,
式(I)中,
Y表示C末端为无保护的氨基酸或C末端为无保护的肽,
R1、R2及R3各自独立地表示可具有取代基的脂肪族烃基,
R1R2R3Si基中的碳原子的总数为10以上,
R1R2R3SiOC(O)基与Y中的N末端键合;
(2)
将工序(1)中得到的肽的C末端的保护基团去除的工序。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其还包括:将下述工序(3)及(4)重复1次以上,
(3)
使C-保护氨基酸或C-保护肽与工序(2)或(4)中得到的肽的C末端缩合的工序,
(4)
将工序(3)中得到的肽的C末端的保护基团去除的工序。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其包括将所得到的肽通过分液进行纯化的工序。
4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其包括用酸性水溶液或碱性水溶液对得到的肽进行分液纯化的工序。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为C1-6烷基、C7-10芳烷基或三C1-6烷基甲硅烷基。
6.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为C1-6烷基或三C1-6烷基甲硅烷基。
7.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为三C1-6烷基甲硅烷基。
8.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为三甲基甲硅烷基。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中的缩合使用选自由碳二亚胺系缩合剂、氯甲酸酯系缩合剂、酰卤系缩合剂、鏻系缩合剂及脲鎓系缩合剂组成的组中的缩合剂进行缩合。
10.根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中的缩合使用选自由氯甲酸异丁酯、新戊酰氯及(1-氰基-2-乙氧基-2-氧代亚乙基氨基氧基)二甲基氨基-吗啉代-碳鎓六氟磷酸盐组成的组中的缩合剂进行缩合。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中还使用碱。
12.根据权利要求11所述的制造方法,其中,碱为脂肪族胺或芳香族胺。
13.根据权利要求11所述的制造方法,其中,碱为N,N-二异丙基乙基胺或N-甲基吗啉。
14.根据权利要求1~13中任一项所述的制造方法,其中,工序(2)中的脱保护条件为使用氟化合物以外的脱保护剂的条件。
15.根据权利要求1~13中任一项所述的制造方法,其中,工序(2)中的脱保护条件为使用水、碱或酸的条件或者使用氢及金属催化剂的条件。
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