[发明专利]肽化合物的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080012021.9 申请日: 2020-02-03
公开(公告)号: CN113366011A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 半田道玄;安田直彦;长屋昭裕;上坂浩之 申请(专利权)人: 日产化学株式会社;肽梦想株式会社
主分类号: C07K1/06 分类号: C07K1/06;C07K1/10;C07K1/14
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 牛蔚然
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化合物 制造 方法
【权利要求书】:

1.肽的制造方法,其包括下述工序(1)及(2),

(1)

使C-保护氨基酸或C-保护肽与式(I)所示的N-保护氨基酸或N-保护肽的C末端缩合的工序,

式(I)中,

Y表示C末端为无保护的氨基酸或C末端为无保护的肽,

R1、R2及R3各自独立地表示可具有取代基的脂肪族烃基,

R1R2R3Si基中的碳原子的总数为10以上,

R1R2R3SiOC(O)基与Y中的N末端键合;

(2)

将工序(1)中得到的肽的C末端的保护基团去除的工序。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其还包括:将下述工序(3)及(4)重复1次以上,

(3)

使C-保护氨基酸或C-保护肽与工序(2)或(4)中得到的肽的C末端缩合的工序,

(4)

将工序(3)中得到的肽的C末端的保护基团去除的工序。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其包括将所得到的肽通过分液进行纯化的工序。

4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其包括用酸性水溶液或碱性水溶液对得到的肽进行分液纯化的工序。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为C1-6烷基、C7-10芳烷基或三C1-6烷基甲硅烷基。

6.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为C1-6烷基或三C1-6烷基甲硅烷基。

7.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为三C1-6烷基甲硅烷基。

8.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,C-保护氨基酸或C-保护肽的C末端的保护基团为三甲基甲硅烷基。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中的缩合使用选自由碳二亚胺系缩合剂、氯甲酸酯系缩合剂、酰卤系缩合剂、鏻系缩合剂及脲鎓系缩合剂组成的组中的缩合剂进行缩合。

10.根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中的缩合使用选自由氯甲酸异丁酯、新戊酰氯及(1-氰基-2-乙氧基-2-氧代亚乙基氨基氧基)二甲基氨基-吗啉代-碳鎓六氟磷酸盐组成的组中的缩合剂进行缩合。

11.根据权利要求1~10中任一项所述的制造方法,其中,工序(1)中还使用碱。

12.根据权利要求11所述的制造方法,其中,碱为脂肪族胺或芳香族胺。

13.根据权利要求11所述的制造方法,其中,碱为N,N-二异丙基乙基胺或N-甲基吗啉。

14.根据权利要求1~13中任一项所述的制造方法,其中,工序(2)中的脱保护条件为使用氟化合物以外的脱保护剂的条件。

15.根据权利要求1~13中任一项所述的制造方法,其中,工序(2)中的脱保护条件为使用水、碱或酸的条件或者使用氢及金属催化剂的条件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社;肽梦想株式会社,未经日产化学株式会社;肽梦想株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080012021.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top