[实用新型]一种2.5倍磁质量色散系统有效

专利信息
申请号: 202023280901.0 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN214226862U 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 邹盛强;林跃武;李海军;苗凯;佘永东;杨少华 申请(专利权)人: 四川红华实业有限公司
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J49/20;H01J49/30
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高安娜
地址: 610000 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 2.5 质量 色散 系统
【说明书】:

本实用新型属于质谱仪器或分析仪器领域,具体涉及一种2.5倍磁质量色散系统。包括质量分离电磁铁、分析管、离子入射飞行管3、离子出射飞行管;所述的分析管的一端与离子入射飞行管固定连接,另一端与离子出射飞行管固定连接;所述的分析管为弯管,其外部安装质量分离电磁铁;分析管的圆弧部分插入到上极靴和下极靴之间形成的间隙中。本系统对于质量数为250左右的离子,质量色散为3mm,可以方便安装可以移动的离子接收系统。

技术领域

本实用新型属于质谱仪器或分析仪器领域,具体涉及一种2.5倍磁质量色散系统。

背景技术

通常市场中的单聚焦磁质谱计中质量分离磁场是依据离子色散距离的要求设计的,根据不同色散需要,设置磁场的不同偏转半径、入射角、出射角、物距和像距等相关参数,得到一定的色散系数,结合不同的目标离子,从而实现不同目标离子的理想色散距离。一般来讲,相同条件下,离子偏转半径越大,色散也越大。在相同偏转半径和偏转角度的条件下,可以通过改变入射、出射角以及配置对应的物距和像距,也可以提高离子的色散距离。现在市场上已有单倍色散、2倍色散和3倍色散磁质量分析系统,偏转半径200mm、230mmm、 250mm、270mm不等。未见有偏转半径为300mm、2.5倍质量色散的磁质量分析系统。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种2.5倍磁质量色散系统,其能够便于离子接收装置安装调试。

本实用新型的技术方案如下:

一种2.5倍磁质量色散系统,包括质量分离电磁铁、分析管、离子入射飞行管3、离子出射飞行管;所述的分析管的一端与离子入射飞行管固定连接,另一端与离子出射飞行管固定连接;所述的分析管为弯管,其外部安装质量分离电磁铁;分析管的圆弧部分插入到上极靴和下极靴之间形成的间隙中。

所述的质量分离电磁铁包括上极靴、下极靴和导磁体;所述的导磁体上固定连接上极靴和极靴。

所述的分析管的圆弧部分插入到上极靴和下极靴之间形成的间隙中,距离上极靴和下极靴的距离相等。

所述的分析管的圆弧部分插入到上极靴和下极靴之间形成的间隙中,距离上极靴和下极靴的距离均为0.5mm。

所述的上极靴和下极靴的一侧边界距离L1小于上极靴和下极靴的另一侧边界距离L2。

L1为450mm,L2为827mm。

所述的离子入射飞行管与离子源腔体连接,离子出射飞行管与离子接收器腔体相连。

分析管的圆弧半径Rm为300mm。

本实用新型效果在于:对于质量数为250左右的离子,质量色散为3mm,可以方便安装可以移动的离子接收系统。

附图说明

图1为2.5倍磁质量色散系统示意图;

图2为质量分离电磁铁截面图;

图中:1质量分离电磁铁;2分析管;3离子入射飞行管;4离子出射飞行管;101.上极靴;102.下极靴;103.导磁体。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

如图1所示,2.5倍磁质量色散系统包括:质量分离电磁铁1、分析管2、离子入射飞行管3、离子出射飞行管4。

分析管2的一端与离子入射飞行管3采用法兰连接;

分析管2的另一端与离子出射飞行管4采用法兰连接;

分析管2为弯管,其外部安装质量分离电磁铁1,两者的安装方式为:分析管2由两端的离子入射飞行管3和离子出射飞行管4装配固定,其中圆弧部分插入到上极靴101和下极靴102之间形成的间隙中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川红华实业有限公司,未经四川红华实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202023280901.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top