[实用新型]掩模板清洁装置有效

专利信息
申请号: 202023242011.0 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN214417184U 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 朱琪;刘小虎 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B13/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 顾浩
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 模板 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种掩模板清洁装置,其特征在于,包含:

存储室,所述掩模板放置在所述存储室内;

气体喷头,所述气体喷头对准所述掩模板的放置的位置布置,所述气体喷头连接氮气源,

所述存储室的内部环境除气体入口和气体出口外与外部环境相对封闭,所述气体入口处设有风机过滤单元。

2.根据权利要求1所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述气体出口处设有排气装置,所述气体入口处位于存储室的上方,气体出口位于存储室的下方。

3.根据权利要求1所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述掩模板放置在掩模盒中,所述存储室内部设有承载台,所述掩模盒放置在所述承载台上,所述承载台上具有开盒机构。

4.根据权利要求3所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述气体喷头设置在所述承载台与所述掩模盒接触面以下,所述承载台镂空设计。

5.根据权利要求1所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述气体喷头连接运动机构,所述运动机构包含由第一方向驱动电机驱动第一方向运动架,由第二方向驱动电机驱动第二方向运动架,由第三方向驱动电机驱动的第三方向旋转构件,所述第二方向运动架架设于所述第一方向运动架上,所述第三方向旋转构件架设于所述第二方向运动架上,所述第三方向旋转构件连接以带动所述气体喷头,所述第一方向垂直于所述第二方向,而第三方向垂直于第一方向和第二方向。

6.根据权利要求1所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述气体喷头与所述氮气源之间设有气体电磁阀,所述气体电磁阀由其电磁线圈的开关电路控制气体电磁阀接通或者断开气体通路。

7.根据权利要求1或2所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述存储室内设有环境质量监测传感器,所述环境质量监测传感器感知存储室内的环境指标参数是否超过设定值,向风机过滤单元发出启动或停止信号,启动或停止风机,向或不向储存室输入洁净的下降流。

8.根据权利要求3所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述开盒机构的执行杆由液压缸或电缸驱动,所述液压缸或电缸由开盒电磁阀或开盒开关电路控制其动作,所述开盒电磁阀由其电磁线圈的开关电路控制。

9.根据权利要求5所述的掩模板清洁装置,其特征在于,所述第一方向驱动电机、第二方向驱动电机、第三方向驱动电机为由各自脉冲信号驱动的步进电机。

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