[实用新型]一种固定牢固的掩膜板夹持机构有效

专利信息
申请号: 202022914071.6 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN214351875U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 钟兴进 申请(专利权)人: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
主分类号: B25B11/00 分类号: B25B11/00;B08B13/00;G03F1/00
代理公司: 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 代理人: 蔡稷元
地址: 511300 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 固定 牢固 掩膜板 夹持 机构
【说明书】:

本实用新型为一种固定牢固的掩膜板夹持机构,包括放置板,所述放置板包括控制柱以及滑板,所述滑板设有滑槽,所述滑槽位于所述滑板的顶端,所述滑槽设有滑块,所述滑块的顶端设有紧固块,所述紧固块的内部设有滑动电机,所述紧固块与紧固块相对一侧设有感应器,所述控制柱包括吸泵以及控制主板,所述吸泵的顶端设有吸附口,所述吸泵的底端设有排气口,将掩膜板放置到放置板上,通过滑动电机带动滑块在滑槽上进行移动,使感应器抵在掩膜板的一侧,通过四个不同方向的感应器进行感应掩膜板,当移动困难时感应器立刻控制滑动电机停止运行,防止对掩膜板造成损伤,通过吸泵将吸附口上方的空气进行吸压,使掩膜板固定在放置板上。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备技术领域,具体为一种固定牢固的掩膜板夹持机构。

背景技术

众所周知,光刻掩膜版,简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上,在半导体晶圆的生产过程中,曝光工艺是影响后续所有工艺过程的重要一步,曝光使用的掩膜板是该工艺中的核心部件,是将图形转移到晶圆上的载体,在曝光过程中,掩膜板会经常沾染晶圆表面的光刻胶和环境中的浮尘,这些对于曝光效果非常不利,因此要对掩膜板的正反两面进行清洗;这就使得掩膜板无法使用真空吸附方式,而只能使用夹持的方式进行清洗。

如对比公开专利“CN106356326A”名为“一种掩膜板夹持机构”,包括承片台及沿周向均布于承片台上的多个四杆机构,四杆机构包括底座、从动摆块、驱动摆块及压块,底座安装在承片台上,从动摆块的一端铰接在底座上,另一端与驱动摆块的一端铰接,驱动摆块的另一端铰接于压块上,压块的一端铰接在底座上,另一端安装有垫片;底座上开有凹槽,掩膜板放在各四杆机构的底座上的凹槽内,由于掩膜板的厚度较薄,该夹持机构在夹持过程中容易对掩膜板造成损坏的情况,从而增加了不必要的生产成本。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种方便操作,固定牢固的掩膜板夹持机构。

(二)技术方案

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种固定牢固的掩膜板夹持机构,包括放置板,所述放置板包括控制柱以及滑板,所述滑板安装在所述放置板的四周,所述滑板设有滑槽,所述滑槽位于所述滑板的顶端,所述滑槽设有滑块,所述滑块的顶端设有紧固块,所述紧固块的内部设有滑动电机,所述滑动电机与所述滑块之间设有电路线连接,所述紧固块与紧固块相对一侧设有感应器,所述控制柱安装在所述放置板的底端,所述控制柱包括吸泵以及控制主板,所述吸泵以及控制主板均安装在所述控制柱的内部,所述吸泵的顶端设有吸附口,所述吸附口连通所述放置板,所述吸泵的底端设有排气口,所述排气口连通所述控制柱,所述吸泵连通所述吸附口以及排气口,所述控制主板与所述滑动电机、感应器以及吸泵之间设有电路线连接。

为了方便工作人员操作,本实用新型改进有,所述控制柱设有指示灯以及按键,所述指示灯以及按键均安装在所述控制柱的一侧,所述控制主板与所述指示灯以及按键之间设有电路线连接。

为了放置夹持力度过大损害物料,本实用新型改进有,所述感应器的外侧设有橡胶层。

为了防止物料在清洗时等工序中泼溅腐蚀该橡胶层,本实用新型改进有,所述橡胶层的材质为软质橡胶,且所述橡胶层的外面涂有防腐漆。

为了防止夹持过程中物料滑动,影响正常夹持,本实用新型改进有,所述橡胶层的外侧设有防滑纹。

为了增加摩擦力度,本实用新型改进有,所述防滑纹的形状为井字防滑纹。

为了防止灰尘进入内部,本实用新型改进有,所述吸附口的顶端设有防尘网,所述防尘网上设有吸附孔,所述吸附孔贯穿所述防尘网。

为了增加该防尘网的使用寿命,本实用新型改进有,所述防尘网的类型为金属防尘网,添加有铝合金材质。

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