[实用新型]一种改善立式设备共振的垫片

说明书

本实用新型涉及一种改善立式设备共振的垫片，可在不改变原安装结构的前提下，改善共振，以降低设备振动。包括小垫片A、小垫片B、小垫片C、大垫片；大垫片呈圆环形，其上有若干圆形螺栓孔，小垫片A、小垫片B、小垫片C分别布置在大垫片的下方，小垫片A、小垫片B、小垫片C的位置点分别为点A、点B、点C，点A、点B、点C位于螺栓孔圆心组成的圆圈上，点A、点B、点C不得位于螺栓孔区域内。该垫片可在不改变原安装结构的前提下，改善共振，以降低设备振动。

技术领域

本实用新型涉及一种改善立式设备共振的垫片，可在不改变原安装结构的前提下，改善共振，以降低设备振动。

背景技术

核电厂有较多旋转设备为立式结构。该类立式结构常因设计考虑不足，在现场安装中发生共振现象。由于较多设备转速不能改变，为治理共振需要重新设计选型和进行现场改造，改变设备的固有频率以降低共振响应。而这样的工作耗时非常长，将制约电厂的建设和运营。

立式设备一般通过螺栓将底部的环形底座与基础相连，在环形底座和基础之间有时会布置垫片以调整立式设备的水平度。经研究发现，垫片作为设备和基础之间的中间部件，在一定程度上也会影响立式设备的安装固有频率。为能在不改变设备结构前提下快速改善设备共振，需实用新型一种新型垫片，并根据实际情况进行设计，以调节设备安装后的固有频率。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种改善立式设备共振的垫片，以快速降低设备的共振幅度。

为达到上述目的，本实用新型所采取的技术方案为：

一种改善立式设备共振的垫片，包括小垫片A、小垫片B、小垫片C、大垫片；大垫片呈圆环形，其上有若干圆形螺栓孔，小垫片A、小垫片B、小垫片C分别布置在大垫片的下方，小垫片A、小垫片B、小垫片C的位置点分别为点A、点B、点C，点A、点B、点C位于螺栓孔圆心组成的圆圈上，点A、点B、点C不得位于螺栓孔区域内。

所述的小垫片A、小垫片B、小垫片C为长方形。

所述的小垫片A、小垫片B、小垫片C选用不锈钢。

所述的小垫片A、小垫片B、小垫片C选用铸铁。

所述的大垫片选用橡胶。

所述的大垫片选用聚四氟乙烯。

如果需降低设备的固有频率，小垫片A、小垫片B、小垫片C的厚度设计为0.5mm至3mm；未压缩时，大垫片的厚度设计为小垫片A、小垫片B、小垫片C厚度的1倍至8倍；点A、点B、点C组成锐角三角形；立式设备的重心投影至垫片平面为G点，G点位于三角形ABC内，如果设备x方向固有频率比y方向降低更多，则三角形ABC在x轴上的投影长度比在y轴上短。

如果需提高设备的固有频率，未压缩时，大垫片的厚度设计为小垫片A、小垫片B、小垫片C厚度的0倍至3倍，大垫片厚度为0即无大垫片。

本实用新型所取得的有益效果为：

无需更改变设备旋转频率和设备结构，即可快速小幅调整设备的固有频率。可增加设备安装后的阻尼。可在较短时间内，快速降低共振幅度，完成结构共振的治理。

附图说明

图1为改善立式设备共振的垫片正视图；

图2为改善立式设备共振的垫片剖视图；

图中：1、小垫片A；2、小垫片B；3、小垫片C；4、大垫片。

设备重心投影G，小垫片位置点A、B、C。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。