[实用新型]一种用于聚对二甲苯真空沉积系统的耐高温密封结构

说明书

本实用新型公开了一种用于聚对二甲苯真空沉积系统的耐高温密封结构，包括主机、真空腔室和底座，所述底座布置于主机的一侧，真空腔室水平布置于底座的顶端，所述主机靠近真空腔室的一端连接有管口法兰一。本实用新型通过在管口法兰一与管口法兰二上皆设有环形隔热槽，并在环形隔热槽内部填充有环形陶瓷或隔热棉，一方面利用环形隔热槽部位管口法兰侧壁厚度降低减小了热量向外侧传递的速率，另一方面利用环形隔热槽内部的环形陶瓷或隔热棉的隔热保温效果避免了管口法兰的散热对高温原材料造成温度降低的影响，由于冷却槽布置于环形隔热槽的外侧，则避免了冷却槽冷却对密封垫降温保护过程中对高温原材料造成品质的影响。

技术领域

本实用新型涉及真空沉积技术领域，具体为一种用于聚对二甲苯真空沉积系统的耐高温密封结构。

背景技术

聚对二甲苯是在室温条件下气相沉积获得的薄膜物质，可以生成数百微米内任何厚度的薄膜，利用真空沉积技术可以将膜厚精度控制在1μm，此外，真空沉积的帕利灵具有均一性、保形性，无微孔无缺陷，化学性质不活泼等优良特性，由于真空沉积不使用催化剂和溶剂，产出的薄膜很纯净，释气量很小，聚对二甲苯薄膜具有极其优良的电性能、化学稳定性和生物相容性，在微电子机械系统、电子元器件、医疗器材等领域有着广泛的应用。

聚对二甲苯薄膜均采用气相沉积法(CVD工艺)制造，工艺如下：对二甲苯二聚体在设备主机系统中180℃下升华为气体，经过高温裂解为对二甲苯单体，再导入真空腔室内部沉积装置中在室温下沉积聚合于产品表面。这种工艺使得聚对二甲苯薄膜具有无残余应力、完全同形、高度均匀、渗透力强等优势。

目前的聚对二甲苯真空卧式沉积系统密封结构采用主机内裂解管与真空腔室左侧延伸出连接管管口通过法兰密封圈连接，由于裂解温度为700℃左右的高温，法兰密封圈距离裂解高温段距离较小,且热量直接由裂解管传导而来，法兰密封圈在此高温环境下容易老化,需要经常更换，同时在使用中存在漏气隐患易导致产品报废，为此我们发明了一种能够对密封结构进行冷却并不影响原料裂解温度的耐高温密封结构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于聚对二甲苯真空沉积系统的耐高温密封结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于聚对二甲苯真空沉积系统的耐高温密封结构，包括主机、真空腔室和底座，所述底座布置于主机的一侧，真空腔室水平布置于底座的顶端，所述主机靠近真空腔室的一端连接有管口法兰一，所述真空腔室靠近主机的一端连接有与管口法兰一相适配的管口法兰二，所述管口法兰一与管口法兰二相互靠近一侧的外侧壁内侧边缘位置处皆设有环形隔热槽，所述管口法兰一与管口法兰二上的环形隔热槽相互对齐布置，所述管口法兰一与管口法兰二相互靠近一侧的外侧壁外侧边缘位置处皆呈环形等间距均匀布置有安装孔一，所述安装孔一内侧的管口法兰二外侧壁靠近管口法兰一一侧设有环形密封槽一，所述环形密封槽一的内部设有密封垫，所述环形密封槽一与环形隔热槽之间的管口法兰一与管口法兰二外侧壁一侧设有进液槽，所述管口法兰一与管口法兰二外侧壁的另一侧设有出液槽，所述出液槽与进液槽之间的管口法兰一与管口法兰二外侧壁两侧皆对称布置有一对冷却槽，所述冷却槽与出液槽和进液槽之间的管口法兰一与管口法兰二侧壁上等间距均匀布置有透水孔，所述冷却槽部位的管口法兰一与管口法兰二外侧壁上皆可拆卸安装有防护罩，所述防护罩呈圆环状，防护罩内外侧侧壁的边缘位置处皆设有安装板，内外侧安装板上皆等间距均匀布置有安装孔二，且管口法兰一与管口法兰二外侧壁上皆等间距布置有与安装孔二相配合的沉头孔，所述防护罩外侧壁的一侧连接有进液管，所述进液管对称一侧的防护罩外侧壁上连接有出液管，且进液管与出液管分别与进液槽和出液槽相对齐布置。

优选的，所述冷却槽呈圆弧状，冷却槽的内部皆等间距均匀布置有冷却翅片，所述冷却翅片皆呈圆弧状，且冷却槽部位的冷却翅片直径由内到外递增。

优选的，所述环形隔热槽的内部放置有环形陶瓷或隔热棉。