[实用新型]一种辐照自屏蔽设备有效
| 申请号: | 202021841408.9 | 申请日: | 2020-08-28 |
| 公开(公告)号: | CN213752000U | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
| 发明(设计)人: | 党星;史浩;刘晋升;王忠;陈怀璧;韩志伟;覃怀莉 | 申请(专利权)人: | 江苏同威信达技术有限公司 |
| 主分类号: | G21F3/00 | 分类号: | G21F3/00 |
| 代理公司: | 苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙) 32304 | 代理人: | 汤婷 |
| 地址: | 213000 江苏省常州市金坛*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 辐照 屏蔽 设备 | ||
本实用新型公开了一种辐照自屏蔽设备,具有自屏蔽结构,所述自屏蔽结构安装在设备支架上,所述的自屏蔽结构由屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板组成一个四面完全封闭的通道,所述自屏蔽结构通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干空间,所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造,位于所自屏蔽结构的中心区域内布置有射线源,传输线体从自屏蔽结构的入口侧屏蔽挡板开口处穿入自屏蔽结构,经过射线源下方,从自屏蔽结构出口侧屏蔽挡板开口处穿出,所述传输线体在自屏蔽结构内多次弯折以穿过屏蔽挡板开口,以最小的空间和传输距离来实现满足环境剂量要求的目的。
技术领域
本实用新型涉及辐照技术领域,尤其涉及有连续传输装置的一种辐照自屏蔽设备。
背景技术
辐照技术在如今多个行业内应用广泛,如食品加工,电缆交联,橡胶硫化等。辐照设备面临的最大问题是射线对环境的影响,世界各国和各界都对辐射环境剂量有着严格的管控要求,因此往往辐照设备都需要放置在密封的具有足够屏蔽等级的房间内,或者要求辐照设备足够远离人员活动区域。在如此条件下,辐照设备的配套传输系统会很长,机房的占地面积也会很大,严重限制了辐照设备的应用场景。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决上述提出的问题,提供一种辐照自屏蔽设备,将传输线折叠穿越各层屏蔽开口,达到以最小的空间和传输距离来实现满足环境剂量要求的目的。
本实用新型的目的是以如下方式实现的:一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:具有自屏蔽结构,所述自屏蔽结构安装在设备支架上,所述的自屏蔽结构由屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板组成一个正面、背面、上面、下面完全封闭的通道,所述自屏蔽结构通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干屏蔽空间,所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造,位于所述自屏蔽结构的中心区域内布置有射线源,传输线体从自屏蔽结构入口侧入口屏蔽挡板开口处穿入自屏蔽结构,经过射线源下方,从自屏蔽结构出口侧出口屏蔽挡板开口处穿出,经过自屏蔽结构下方回到自屏蔽结构的入口侧,所述传输线体在自屏蔽结构内多次弯折以穿过竖型屏蔽挡板开口,所述射线源的正下方设有排风管道,用于排出辐照产生的臭氧。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述传输线体通过传输线入口平台穿过入口蔽挡板,然后弯折向下穿过第二屏蔽挡板,然后折弯弧度向上与第二平台连接,第二平台穿过第三屏蔽挡板后向下折弯进入第四平台,所述第四平台依次穿过第四屏蔽挡板与第五屏蔽挡板,所述射线源位于所述第四屏蔽挡板和第五屏蔽挡板隔成的空间的正上方,所述第四平台的运动方向的末端折弯向上与第五平台连接,所述第五平台穿过第六屏蔽挡板,所述第五平台的末端向下到一定角度后折弯向上后穿过第七屏蔽挡板连接出口平台,所述出口平台穿过出口屏蔽挡板后离开自屏蔽结构。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述输送线平台和屏蔽挡板的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述入口蔽挡板和出口屏蔽挡板的开孔上下两侧不是同平面的。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述射线源种类为电子束或X射线。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述自屏蔽结构上的屏蔽盖板是可以分块开启的,每个可开启的屏蔽盖板都设有限位开关用于监控开关情况,保证使用中无辐射泄漏。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述排风管道由屏蔽材料制成,且经过多次弯折避免辐射泄漏。
更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备,所述自屏蔽结构下方设置有传输线体清洗装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏同威信达技术有限公司,未经江苏同威信达技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021841408.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





